Dans le domaine de la lithographie, une déviation de 0,5 °C pendant le processus de cuisson n’est pas une petite erreur. Cela entraîne une baisse de la qualité du produit fini, ce qui se voit clairement dans les graphiques montrant l’uniformité du CD, ainsi que dans les quantités de déchets produits. Les chauffages infrarouges utilisés pour le revêtement ou le développement doivent maintenir une stabilité thermique parfaite, en harmonie avec les éléments optiques et le photorésiste.
Nous avons conçu ces chauffages pour permettre un contrôle précis au niveau de la wafer. L’arrangement des émetteurs infrarouges permet d’envoyer l’énergie directement dans la wafer, ce qui permet des rampes de température rapides sans perturber l’équilibre thermique de la chambre. L’uniformité de température sur toute la surface de la wafer reste donc dans une fourchette de ±0,1 °C – ce qui signifie que les zones périphériques reçoivent le même traitement thermique que le centre de la wafer.
L’équipement est prêt à être utilisé en environnement propre : les éléments chauffants sont protégés par du quartz, et la conception de l’appareil évite tout émission de gaz, ce qui permet de travailler dans des conditions de classe 1–100. Les particules restent à leur place, grâce aux jonctions scellées et aux circuits d’aération qui empêchent les débris de se retrouver sur la film. La répétabilité est assurée par un contrôle en boucle fermée à la surface de la wafer, et non par des estimations basées sur les paramètres du chauffage.
Dans les processus de revêtement et de développement, le temps et la température constituent des facteurs importants. Le chauffage infrarouge permet de réduire le temps de cuisson sans provocher de surchauffe, ce qui permet d’accélérer les cycles tout en maintenant un contrôle précis des dimensions critiques. Les profils du photorésiste restent constants d’un lot à l’autre, ce qui réduit le nombre de réparations et de ajustements nécessaires.
Cela permet également de réduire les coûts énergétiques. Comme l’énergie est dirigée directement vers la wafer, il y a moins de chaleur perdue dans le châssis de l’appareil. En pratique, cela signifie que l’appareil fonctionne 24/7, avec des intervalles de maintenance prévisibles, ce qui évite les interruptions de fonctionnement qui pourraient endommager les wafers.
L’installation consiste simplement à s’assurer que l’interface de l’appareil correspond bien aux besoins, puis à vérifier les paramètres électriques et de refroidissement disponibles. Le chauffage fonctionne mieux dans un air propre et sec, avec une tension électrique stable ; des fluctuations de tension peuvent entraîner un léger retard dans les processus rapides.
Nous fournissons un kit de calibrage ainsi que des modèles de paramètres pour les photorésistes courants. Cependant, le ajustement final doit être effectué en tenant compte des données de métrologie et des tests effectués sur les lots de production.