כאן תמצאו את העמודים אשר משתמשים בטקסונומיה “איי אר” ויסת מתח עבור FAB IR במכון הייצור, אפיית photoresist אינה בחירה — זו טולרנס שחייבים לחיות איתה. סטייה של 0.5℃ לאורך ה-wafer מתבטאת בשינוי רוחב קווים לאחר החשיפה, וזה... Read more...
ויסת מתח עבור FAB IR במכון הייצור, אפיית photoresist אינה בחירה — זו טולרנס שחייבים לחיות איתה. סטייה של 0.5℃ לאורך ה-wafer מתבטאת בשינוי רוחב קווים לאחר החשיפה, וזה... Read more...
