Di area litografi, perubahan suhu sebesar 0,5°C selama proses pemanasan tidak dapat dianggap sebagai “deviasi kecil”. Hal ini berdampak pada penurunan kualitas produk yang dihasilkan, hal ini bisa dilihat dari grafik keseragaman ketebalan lapisan fotoresist serta jumlah limbah yang dihasilkan. Pemanas inframerah yang digunakan harus mampu menjaga stabilitas suhu agar sesuai dengan kondisi optik dan fotoresist yang digunakan.
Kami merancang pemanas ini sedemikian rupa sehingga dapat mengontrol suhu di tingkat wafer. Emitter inframerah akan mengirimkan energi langsung ke wafer, sehingga proses pemanasan berjalan lebih cepat tanpa menyebabkan peningkatan suhu berlebihan di dalam ruang proses. Keseragaman suhu di seluruh permukaan wafer tetap berada dalam rentang ±0,1°C, sehingga bagian tepi wafer juga mendapatkan perlakuan pemanasan yang sama seperti bagian tengahnya.
Perangkat keras ini cocok digunakan di lingkungan clean room: komponen-komponennya dilindungi oleh lapisan kuarsa, dan desainnya memungkinkan penggunaan udara bersih di dalam ruang proses. Partikel-partikel debu tetap berada di tempatnya, berkat adanya sambungan yang tertutup dan jalur aliran udara yang efektif. Repeatabilitas proses dipastikan melalui kontrol tertutup di permukaan wafer, bukan dengan menebak-nebak parameter pemanas.
Dalam proses pelapisan fotoresist, waktu dan suhu merupakan faktor penting. Pemanas inframerah membantu mengurangi waktu pemanasan tanpa menyebabkan peningkatan suhu berlebihan, sehingga proses produksi dapat berjalan lebih cepat sambil tetap mempertahankan kualitas produk. Profil fotoresist tetap konsisten antar batch produksi, sehingga diperlukan sedikit sekali perbaikan atau penyesuaian.
Hal ini juga membantu menghemat biaya operasional. Karena energi digunakan secara efektif—langsung ke wafer—panas yang terbuang pun berkurang. Dari segi keandalan, sistem ini dapat beroperasi 24/7 dengan jadwal perawatan yang teratur, sehingga tidak ada risiko gangguan operasional yang dapat merusak proses produksi wafer.
Proses instalasi membutuhkan perhatian terhadap detail-detailnya: pastikan antarmuka alat sesuai, lalu periksa kondisi listrik dan sistem pendinginan yang ada. Pemanas ini membutuhkan udara yang bersih dan kering, serta tegangan listrik yang stabil. Penurunan tegangan listrik dapat memperpanjang waktu proses pemanasan.
Kami menyediakan kit kalibrasi dan template proses untuk berbagai jenis fotoresist, namun penyetelan akhir masih perlu dilakukan berdasarkan hasil pengukuran dan uji coba yang dilakukan.