Di fasilitas produksi semikonduktor, suhu bukanlah sesuatu yang dapat diatur semaunya—melainkan spesifikasi yang harus dipatuhi secara ketat. Perubahan suhu sebesar 0,5°C saja sudah cukup untuk mengubah lebar garis pada permukaan wafer. Partikel-partikel yang berasal dari pemanas pun dapat merusak wafer tersebut. Dalam mesin-mesin pengolahan semikonduktor, modul termallah yang menentukan tingkat keandalan proses, waktu operasional, serta biaya per wafer.
Kami merancang sistem termal berdasarkan batasan-batasan proses yang ada, bukan berdasarkan karakteristik panelnya. Tujuannya adalah mencapai tingkat keseragaman suhu pada level wafer sebesar ±0,1°C. Hal ini dicapai melalui penggunaan pemanas berbasis sinar inframerah, jendela kuarza, serta sistem pemantauan suhu yang efektif, sehingga suhu tetap terkendali di permukaan wafer, bukan di bagian dalamnya.
Proses ini dilakukan di ruang kerja bersih kelas 1–100, dengan tingkat partikel yang sangat rendah, sebagaimana yang ditunjukkan oleh sistem pemantauan yang ada. Setiap proses pemanasan—baik pemanasan ringan untuk menghilangkan pelarut maupun pemanasan intensif untuk memastikan keterikatan bahan pada wafer—dilakukan dalam batas suhu yang ketat. Keandalan sistem ini mencapai 24 jam, berkat adanya sistem sensor yang redundant serta arsitektur termal yang mampu menjaga suhu tetap stabil meski terjadi fluktuasi tegangan atau perubahan suhu lingkungan.
Lithography cluster membutuhkan stabilitas suhu yang konsisten di antara berbagai alat yang digunakan. Modul termal kami memberikan profil pemanasan yang konsisten, sehingga variasi CD pada wafer dapat dikurangi, dan jumlah wafer yang gagal diproduksi pun berkurang. Dengan demikian, tidak diperlukan banyak proses perbaikan, limbah pun berkurang, dan kapasitas produksi tetap stabil.
Penggunaan energi pun berkurang, karena pemanasan menggunakan sinar inframerah yang langsung menyentuh permukaan wafer, sehingga proses pemanasan berlangsung lebih cepat dengan massa yang digunakan minimal. Di fasilitas produksi yang menggunakan berbagai jenis wafer, platform yang sama dapat digunakan untuk memproses berbagai ukuran wafer tanpa perlu penyesuaian ulang, sehingga strategi penyediaan suku cadang pun menjadi lebih sederhana.
Namun, integrasi sistem ini bukanlah hal yang mudah. Unit ini membutuhkan pasokan daya yang khusus, kabel yang bebas dari gangguan EMI, serta sistem ventilasi yang memadai agar partikel-partikel tetap terkendali. Rencanakan waktu pemasangan yang singkat agar kalibrasi piranometer dapat disesuaikan dengan proses produksi yang ada.
Setelah sistem ini terpasang, manfaatnya sangat jelas: Anda mendapatkan kontrol suhu yang lebih baik, sehingga proses produksi menjadi lebih efisien, dengan sedikit sekali gangguan, dan waktu operasional yang dapat direncanakan dengan lebih baik.