Di proses litografi, perubahan suhu sebesar 0,5°C saja sudah cukup untuk membuat dimensi kritis komponen berubah beberapa nanometer. Itu berarti banyak sekali produk yang menjadi tidak layak digunakan. Kami membuat lampu inframerah yang dilengkapi dengan alat semacam pisau udara, agar panasnya tetap berada di posisi yang tepat—yaitu di permukaan wafer, di seluruh bagian wafer, dari shift ke shift berikutnya.
Akurasi pemanasan inframerah: keseragaman dan repetibilitas hingga tingkat sub-milimeter
Sistem ini menggunakan emitor gelombang pendek untuk mengirim energi secara langsung ke lapisan fotoresist, dengan cepat. Kontrol berkala memastikan bahwa suhu tetap stabil dalam rentang ±0,1°C. Desain berbasis kuarsa membantu menjaga stabilitas profil termal, sehingga tercipta keseragaman hingga tingkat sub-milimeter di seluruh permukaan wafer. Hal ini membantu menghilangkan partikel-partikel kecil dan meningkatkan ketepatan pola yang dihasilkan.
Alat pisau udara yang terintegrasi menciptakan aliran udara bertekanan tinggi di permukaan wafer. Aliran udara ini membantu menghilangkan kelembapan dan partikel-partikel kecil tanpa menyentuh permukaan wafer. Dengan demikian, proses produksi dapat dilakukan di ruang bersih kelas 1–100, sehingga jumlah partikel di udara tetap rendah.
Mengapa cocok untuk proses manufaktur semikonduktor
Kombo ini dirancang khusus untuk proses pengolahan fotoresist—baik untuk proses pemanasan ringan, pemanasan intensif, maupun proses pemanasan setelah eksposur. Alat pisau udara membantu menghilangkan kontaminan dari permukaan wafer sebelum proses pemanasan dimulai. Sementara itu, panas inframerah memberikan suhu yang diinginkan setiap kali proses berlangsung.
Hasilnya adalah kontrol dimensi yang lebih baik, pengurangan jumlah produk yang harus diperbaiki, serta tingkat produktivitas yang dapat diprediksi. Unit ini juga tahan lama; kami telah melihat unit ini beroperasi selama 5.000 jam lebih dengan penurunan kualitas produk kurang dari 5%.
Catatan penginstalan dan pengoperasian
Lampu ini dapat dipasang dalam alat standar, tetapi penyetelan ketinggian emitor dan jarak antara alat pisau udara sangat penting. Butuh waktu singkat untuk menyetel parameter tersebut dan membuat peta suhu yang akurat. Pastikan tekanan udara di ruang bersih dan sistem pendinginan mampu menangani aliran udara tambahan tersebut. Jika tidak, akan timbul turbulensi mikro yang mengganggu konsistensi proses pemanasan. Selain itu, lakukan kalibrasi emitor secara rutin—repetibilitas proses tidak terjadi secara kebetulan.