
Di kilang pengeluaran semikonduktor, suhu bukanlah sesuatu yang boleh diubah mengikut kehendak kita – ia merupakan spesifikasi yang mesti dipatuhi. Perubahan suhu sebanyak 0.5°C sahaja sudah cukup untuk mengubah ketebalan garisan pada permukaan wafer. Partikel yang berasal daripada pemanas juga boleh merosakkan wafer tersebut. Dalam mesin pengeluaran semikonduktor, modul pengawalan suhu memainkan peranan penting dalam menentukan kualiti produk, masa operasi, dan kos pengeluaran setiap wafer.
Kita mereka bentuk sistem pengawalan suhu berdasarkan julat suhu yang diperlukan, bukan berdasarkan struktur panelnya. Sasaran yang ditetapkan ialah keseragaman suhu pada tahap wafer sebanyak ±0.1°C. Ini dapat dicapai melalui penggunaan pemanasan jenis NIR, tingkap kuarsa, serta sistem pengukuran suhu yang tepat yang mengawal suhu pada permukaan wafer – bukan di bahagian lain.
Sistem ini beroperasi dalam bilik bersih kelas 1–100, di mana tiada partikel yang terhasil, seperti yang disahkan melalui pemantauan secara berterusan. Setiap proses pemanasan – sama ada pemanasan ringan untuk mengeluarkan pelarut atau pemanasan intensif untuk memastikan adhesi yang baik – dilakukan dalam lingkungan suhu yang tetap. Kebolehpercayaan sistem ini dalam jangka masa 24 jam bergantung pada sistem pengesanan yang efektif serta reka bentuk sistem pengawalan suhu yang mampu mengekalkan suhu yang tetap walaupun berlaku perubahan voltan atau perubahan suhu persekitaran.
Kumpulan alat litografi memerlukan sistem pengawalan suhu yang konsisten merentas pelbagai alat yang digunakan. Modul pengawalan suhu yang kita gunakan memastikan profil pemanasan yang konsisten, sekali gus mengurangkan variasi ukuran wafer dan jumlah wafer yang perlu dibuang. Ini bermakna kurangnya kerja pembaikan, kurangan bahan buangan, dan kelajuan pengeluaran yang lebih stabil.
Penggunaan tenaga juga berkurangan kerana pemanasan jenis NIR berlaku secara langsung, dengan peningkatan suhu yang cepat tanpa memerlukan masa tunggu yang lama. Di kilang yang menghasilkan pelbagai jenis wafer, platform yang sama dapat digunakan untuk menghasilkan wafer berbeza saiz tanpa perlu proses penyesuaian semula, sekali gus memudahkan pengurusan stok alat ganti.
Proses integrasi sistem ini bukanlah perkara yang mudah. Unit ini memerlukan sumber tenaga khusus, kabel yang bebas daripada gangguan EMI, serta sistem pengudaraan yang sesuai untuk memastikan tiada partikel yang masuk ke dalam bilik bersih. Pelan pelancaran yang efektif diperlukan untuk menyesuaikan kalibrasi alat pengukur suhu dengan spesifikasi yang ditetapkan.
Setelah sistem ini beroperasi, manfaatnya sangat jelas: kita mendapat kawalan suhu yang lebih ketat, margin operasi yang lebih luas, serta masa operasi yang lebih stabil.