W procesie litografii istnieje określony standard: nawet niewielka zmiana temperatury w wysokości 0,5°C może powodować zmianę krytycznych wymiarów elementów o wartość kilku nanometrów. To oznacza mnóstwo odpadów. Stworzyliśmy lampę podczerwieni z urządzeniem do usuwania gazów, aby utrzymać właściwą temperaturę na powierzchni płytki – bez żadnych zmian z kolejki na kolejkę.
Precyzja ogrzewania podczerwienią: jednorodność i powtarzalność na poziomie submilimetrowym
System wykorzystuje emitory krótkofalowej podczerwieni, które szybko przekazują energię bezpośrednio do fotorezystu. Sterowanie zamkniętego obwodu zapewnia zachowanie ustalonej temperatury w przedziale ±0,1°C. Konstrukcja oparta na kwarcu sprawia, że profil termiczny jest stabilny i powtarzalny, a jednorodność temperatury na całej powierzchni płytki zapewnia doskonałą jakość rezultatu.
Integrowane urządzenie do usuwania gazów tworzy warstwę powietrza o wysokiej prędkości na powierzchni płytki. Pozwala to usunąć wilgoć i cząsteczki bez konieczności dotykania samej płytki. Dzięki temu można pracować w pomieszczeniach klasy 1–100, przy jednoczesnym utrzymaniu niskiej liczby cząsteczek.
Dlaczego to rozwiązanie nadaje się do przetwarzania półprzewodników
Ten zestaw został stworzony specjalnie do przetwarzania fotorezystu – zarówno w procesach delikatnego, jak i intensywnego suszenia, a także po ekspozycji. Urządzenie usuwa zanieczyszczenia z powierzchni płytki przed jej suszeniem, a ciepło podczerwone zapewnia odpowiednią temperaturę za każdym razem.
Efektem jest lepsza kontrola wymiarów elementów, mniejsza liczba próbek do ponownej obróbki oraz możliwość planowania produkcji. Urządzenie jest również odporne na intensywne użytkowanie – widzieliśmy urządzenia, które pracują przez ponad 5 000 godzin z mniej niż 5% spadkiem efektywności.
Wskazówki dotyczące instalacji i obsługi
Lampa pasuje do standardowych uchwytów i bloków pieców, ale ważna jest prawidłowa kalibracja i dostosowanie przepływu powietrza. Oczekuj krótkiego czasu konfiguracji, aby ustawić wysokość emitora i odległość między nim a powierzchnią płytki, a także stworzyć mapę temperatury.
Upewnij się, że ciśnienie i system odprowadzania powietrza w pomieszczeniu są wystarczające. W przeciwnym razie pojawią się mikroturbulencje, które wpłyną negatywnie na spójność procesu suszenia. Pamiętaj o regularnej kalibracji emitora – powtarzalność wyników nie występuje przypadkowo.