การอบวัสดุโฟโตรีซิสต์ให้มีประสิทธิภาพ โดยใช้คลื่นอินฟราเรด
ในกระบวนการลิโธกราฟี แม้ว่าอุณหภูมิในขั้นตอนการอบจะเปลี่ยนแปลงเพียง 0.5°C เท่านั้น ก็อาจทำให้ชิ้นงานทั้งหมดเสียหายได้...
หลอดไฟอบสำหรับเครื่องเคลือบสปิน
On the lithography floor, the bake isn’t a pause—it’s the line in the sand. Soft bake drives off the photoresist solvent. Hard bake locks in the mask...