Litografi işlemlerinde, fırın sıcaklığında meydana gelen 0,5°C’lik bir değişiklik bile tüm ürün partisini işe yaramaz hale getirebilir. “Yumuşak pişirme” işlemi, çözücünün temiz bir şekilde uzaklaştırılmasını sağlar; “sert pişirme” ise malzemenin şeklinin sabitlenmesini sağlar. Termal dengesizlikler oluştuğunda, CD kalitesi bozulur ve parçacık sayısı artar.
Ne inşa ettik ve bunun neden önemli olduğu
Fırın modülünü, kuvars destekli termal yapılarla donatılmış kısa dalga NIR vericiler üzerine yerleştirdik. Bu sayede waferin her noktasında ±0,1°C’lik bir düzenlilik elde ediliyor ve ayarlar sürekli olarak stabil kalıyor. Bu sistem, Class 1’den Class 100’e kadar olan tüm temiz oda koşullarına uygun ve pişirme sırasında hiçbir parçacık salmıyor. Fotoresistin termal özellikleri de her parti için tekrarlanabilir şekilde sabit kalıyor.
Bunun neden işlem hatlarında işe yaradığı
Yumuşak ve sert pişirme işlemleri aynı termal platform üzerinde gerçekleştirildiğinden, fırınlar arasındaki farklar ortadan kalkıyor. İşlem süreci daha verimli hale geliyor, atık oranları düşüyor ve enerji tüketimi azalıyor; çünkü ısıtma işlemi odanın kendisi yerine hedef nesne tarafından gerçekleştiriliyor. Güvenilirlik de sağlanmış oluyor; bileşenler sürekli çalışmaya uygun olarak tasarlanmış ve verici dizisi 5.000 saatten fazla süre boyunca %5’ten az bir verim kaybıyla çalışabiliyor. Daha az müdahale gerekiyor, bakım süreleri azalıyor ve her wafer için tutarlı bir termal kontrol sağlanıyor.
Planlamanız gerekenler
Bu modül, standart mekanik ve elektriksel arayüzler aracılığıyla mevcut sistemlere entegre edilebilir. Ancak termal dengenin korunabilmesi için özel bir 24V kontrol kablosu ve temiz, filtrelenmiş soğutma sistemi gereklidir. Chuck ile wafer arasındaki farkları belirlemek için kısa bir test yapılmalıdır. Bunun ardından, operatör müdahalesi en aza indirilerek pişirme işlemleri tekrarlanabilir hale gelir.