<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Fotorezistent on Radiant Infrared Heating</title>
		<link>http://radiant-ir-heater.com/cs/tags/fotorezistent/</link>
		<description>Recent content in Fotorezistent on Radiant Infrared Heating</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>cs</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 18 Jun 2026 01:20:34 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://radiant-ir-heater.com/cs/tags/fotorezistent/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Účinné vypalování fotorezistentu pomocí IR</title>
				<link>http://radiant-ir-heater.com/cs/posts/effective-photoresist-bake-with-ir/</link>
				<pubDate>Thu, 18 Jun 2026 01:20:34 +0800</pubDate>
				<guid>http://radiant-ir-heater.com/cs/posts/effective-photoresist-bake-with-ir/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://radiant-ir-heater.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;Účinné vypalování fotorezistentu pomocí IR&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;V prostředí litografie stačí odchylka &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;teploty&lt;/a&gt; během procesu zahřívání o 0,5 °C k zničení celé série waférů. Měkké zahřívání slouží k čištění rozpouštědel, zatímco tvrdé zahřívání slouží k ustálení požadovaného profilu teploty. Když dojde k nerovnoměrnosti teploty, kontrola rozměrů waférů selže a počet částic v nich vzroste.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Co jsme vyvinuli a proč je to důležité&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Instalovali jsme modul zahřívání na emitery krátkovlnného infračerveného záření s termickým systémem založeným na kvarcu. Díky tomu dosahujeme rovnoměrnosti teploty na úrovni waféru v rozsahu ±0,1 °C po celé ploše čepele. Stabilita nastavených hodnot teploty je také vysoká – trvá celý den. Modul je kompatibilní s čistými prostory od třídy 1 do třídy 100 a během procesu zahřívání neuvolňuje žádné částice. Termální profily fotorezistentů jsou stabilní mezi jednotlivými sériemi waférů, přičemž teplotní profily přesně odpovídají specifikacím.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
