<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Hliník on Radiant Infrared Heating</title>
		<link>http://radiant-ir-heater.com/cs/tags/hlin%C3%ADk/</link>
		<description>Recent content in Hliník on Radiant Infrared Heating</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>cs</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sun, 28 Jun 2026 01:46:53 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://radiant-ir-heater.com/cs/tags/hlin%C3%ADk/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Hliníkový reflektor pro IR čelovku</title>
				<link>http://radiant-ir-heater.com/cs/posts/aluminum-reflector-for-ir-lamp/</link>
				<pubDate>Sun, 28 Jun 2026 01:46:53 +0800</pubDate>
				<guid>http://radiant-ir-heater.com/cs/posts/aluminum-reflector-for-ir-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://radiant-ir-heater.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;Hliníkový reflektor pro IR čelovku&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;V prostředí lithografie platí určitá pravidla. Už poloviční odchylka o půl stupně během zahřívání fotorezisty stačí k tomu, aby se stabilní proces změnil v problém s kvalitou výsledku. Specifikace pro měkké a tvrdé zahřívání jsou stanoveny právě proto – rovnoměrnost teploty totiž určuje šířku linií na povrchu waferu. A tato kontrola začíná už u systému infračervených lamp.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Co je vlastně důležité&lt;/strong&gt;&#xA;U infračervených lamp stanovujeme parametry hliníkového reflektoru tak, aby poskytoval teplo, které je reprodukovatelné a rovnoměrné v prostoru. Geometrie reflektoru je upravena tak, aby osvětlovací profil &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;odpov&lt;/a&gt;ídal požadavkům waferu – rovnoměrnost teploty činí ±0,1 °C. Povrch reflektoru je pasivován a uzavřen, takže může být použit v čistých prostorách třídy 1–100 bez rizika uvolňování plynů.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
