IR on Radiant Infrared Heating

Keramická krycí hlavice pro IR vysílač

Sat, 25 Jul 2026 02:53:25 +0800

Více tepla tam, kde na něm opravdu záleží: emitory s zlatým povlakem
Při ohřevu křemíkových destiček je důležitá každá jednotka energie. Problém s běžnými infračervenými emitory spočívá v tom, že mají velké úniky tepla. Obrovská část tepla prostě unikne zezadu z lampy, což znamená plýtvání energií a zbytečné zahřívání zařízení.

To jsme vyřešili pokrytím křemene zlatem.
Proč zlato? Protože skvěle odráží infračervené záření. Hliník nebo leštěná ocel s tím prostě neudrží krok. Tím, že na zadní stranu emitoru přidáme vrstvu zlata, v podstatě obrátíme situaci – místo toho, aby teplo unikalo dovnitř zařízení, zlato ho odrazí zpět k destičkám.

Přesný infračervený senzor pro polovodičové destičky

Sat, 25 Jul 2026 02:32:29 +0800

Přestaňte zahřívat vzduch: Chytřejší způsob zpracování destiček

Pojďme mluvit o starých rezistivních pecích. Samozřejmě fungují, ale v podstatě jsou to obrovské topné zařízení. Utrácíte spoustu peněz na zahřívání celé komory a veškerého vzduchu uvnitř jí, jen abyste dostali vaši destičku na správnou teplotu. Je to plýtvání.
Proto jsme přešli na infrazelené zahřívání. Místo toho, abychom zahřívali celou místnost, posíláme teplo přímo do destičky. Je to čistší, rychlejší a zároveň se tak vyhnete zbytečné spotřebě energie v čisté místnosti.

Hliníkový reflektor pro IR čelovku

Sun, 28 Jun 2026 01:46:53 +0800

V prostředí lithografie platí určitá pravidla. Už poloviční odchylka o půl stupně během zahřívání fotorezisty stačí k tomu, aby se stabilní proces změnil v problém s kvalitou výsledku. Specifikace pro měkké a tvrdé zahřívání jsou stanoveny právě proto – rovnoměrnost teploty totiž určuje šířku linií na povrchu waferu. A tato kontrola začíná už u systému infračervených lamp.

Co je vlastně důležité U infračervených lamp stanovujeme parametry hliníkového reflektoru tak, aby poskytoval teplo, které je reprodukovatelné a rovnoměrné v prostoru. Geometrie reflektoru je upravena tak, aby osvětlovací profil odpovídal požadavkům waferu – rovnoměrnost teploty činí ±0,1 °C. Povrch reflektoru je pasivován a uzavřen, takže může být použit v čistých prostorách třídy 1–100 bez rizika uvolňování plynů.

Účinné vypalování fotorezistentu pomocí IR

Thu, 18 Jun 2026 01:20:34 +0800

V prostředí litografie stačí odchylka teploty během procesu zahřívání o 0,5 °C k zničení celé série waférů. Měkké zahřívání slouží k čištění rozpouštědel, zatímco tvrdé zahřívání slouží k ustálení požadovaného profilu teploty. Když dojde k nerovnoměrnosti teploty, kontrola rozměrů waférů selže a počet částic v nich vzroste.

Co jsme vyvinuli a proč je to důležité
Instalovali jsme modul zahřívání na emitery krátkovlnného infračerveného záření s termickým systémem založeným na kvarcu. Díky tomu dosahujeme rovnoměrnosti teploty na úrovni waféru v rozsahu ±0,1 °C po celé ploše čepele. Stabilita nastavených hodnot teploty je také vysoká – trvá celý den. Modul je kompatibilní s čistými prostory od třídy 1 do třídy 100 a během procesu zahřívání neuvolňuje žádné částice. Termální profily fotorezistentů jsou stabilní mezi jednotlivými sériemi waférů, přičemž teplotní profily přesně odpovídají specifikacím.

Regulátor napětí pro fab IR

Tue, 09 Jun 2026 01:15:55 +0800

Na výrobní ploše není pečení fotorezistu volitelné – je to tolerance, podle které se musí pracovat. Posun teploty o 0,5 °C přes wafer se projeví jako variace šířky linií po expozici, což přímo znamená ztrátu výtěžnosti. Vyvinuli jsme náš regulátor napětí pro fab IR, aby termální profil zůstal tam, kde má být: stabilní, opakovatelný a pod kontrolou.

Co je technicky důležité
IR topení sice rychle reaguje, ale je účinné pouze při rovnoměrné tepelné ploše. Náš regulátor udržuje přesnou kontrolu napětí na sběrnici IR emisního prvku, takže výstup zůstává stabilní i přes propad napětí v lince a přepínání zátěže. Dosáhnete submilimetrové rovnoměrnosti v horké zóně a ±0,1 °C stabilitu nastavené teploty přímo na rovině waferu. To není marketingový slogan – jde o měřitelné snížení teplotního gradientu. Zařízení je kompatibilní s cleanroom standardem třídy 1–100, přičemž materiály a obal jsou vybírány tak, aby minimalizovaly počet částic. Cílem je nulová produkce částic a sledujeme to pomocí monitoringu během výrobního procesu.