Beschichtungs Entwickler Infrarotheizer

Sat, 20 Jun 2026 02:23:20 +0800

Im Bereich der Lithografie ist eine Abweichung von 0,5 °C während des Weich- oder Hartbrennvorgangs keine „kleine Abweichung“. Es handelt sich dabei um einen Verlust an Ertrag – das ist deutlich anhand der CD-Gleichmäßigkeitsgrafiken sowie der Menge an Ausschussprodukten zu erkennen. Die Infrarotheizer für die Beschichtung bzw. Entwicklung müssen eine thermische Stabilität aufweisen, die mit der Optik und dem Fotolack übereinstimmt.

Wir haben diesen Heizer so konstruiert, dass er eine Steuerung auf Wafer-Ebene ermöglicht. Der NIR-Strahler leitet die Energie direkt in den Wafer – dadurch werden schnelle Temperaturänderungen erreicht, ohne dass die thermischen Bedingungen im Behälter gestört werden. Die Gleichmäßigkeit der Temperatur auf der Waferoberfläche bleibt dabei bei ±0,1 °C – das bedeutet, dass auch die Randbereiche des Wafers denselben Brennvorgang durchlaufen wie die Mitte des Wafers.

Entwickler on Radiant Infrared Heating

Beschichtungs Entwickler Infrarotheizer