Cocción efectiva del fotoresisto _con IR

Thu, 18 Jun 2026 01:20:34 +0800

En el proceso de litografía, un cambio de temperatura de 0,5°C durante el proceso de secado es suficiente para arruinar toda una producción. El “secado suave” consiste en eliminar los disolventes de manera eficaz; el “secado duro”, en cambio, sirve para fijar el perfil térmico deseado. Cuando la uniformidad térmica se ve afectada, el control del espesor del material fotográfico falla y aumenta la cantidad de partículas presentes.

Lo que hemos creado y por qué es importante
Hemos instalado el módulo de secado sobre emisores de luz infrarroja de onda corta, junto con un sistema térmico mejorado con cuarzo. Esto nos permite lograr una uniformidad térmica de ±0,1°C en toda la superficie de la oblea, además de una estabilidad en el punto de control térmico, incluso durante todo el tiempo. Este sistema es compatible con salas limpias de clase 1 a clase 100, y no genera partículas durante el proceso de secado. El rendimiento térmico del fotoreactivos es consistente de lote en lote, ya que los perfiles térmicos siguen exactamente las especificaciones establecidas.

Lámpara de horneado para recubridor giratorio

Sun, 07 Jun 2026 01:32:57 +0800

En la sala de litografía, el horneado no es una pausa, es la línea divisoria. El soft bake elimina el disolvente del fotoresistente. El hard bake fija la imagen de la máscara antes del grabado. Si la lámpara comienza a desviarse, el costo es inmediato: dimensión crítica no uniforme, borde con rebaba y residuos después del revelado. Por eso existe la lámpara de horneado del spin coater: para eliminar la incertidumbre térmica de la ecuación.

Hornear on Radiant Infrared Heating

Cocción efectiva del fotoresisto _con IR

Lámpara de horneado para recubridor giratorio