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		<title>Procesamiento on Radiant Infrared Heating</title>
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				<title>Elemento calefactor para procesamiento de semiconductores</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://radiant-ir-heater.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;Elemento calefactor para procesamiento de semiconductores&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;En planta, la temperatura no es una variable con la que se experimente, sino una especificación que se debe cumplir estrictamente. Una desviación de medio grado durante el suavizado (soft bake) o el endurecimiento (hard bake) del fotoresiste puede alterar dimensiones críticas, generar desperdicios y comprometer horas de proceso. &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;Fabricamos&lt;/a&gt; nuestros elementos calefactores para procesos semiconductores para eliminar ese riesgo.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Lo que importa internamente&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Hablamos de uniformidad térmica a nivel de oblea dentro de ±0.1°C en toda la zona activa. Esto se traduce en un control repetible de la dimensión crítica (CD) y perfiles estables del resist, punto. El diseño es compatible con salas limpias Clase 1–100, mantiene bajo el nivel de desgasificación y no genera partículas, preservando el rendimiento en litografía e integración en track.&lt;/p&gt;</description>
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