http://radiant-ir-heater.com/fa/tags/bake/ Recent content in Bake on Radiant Infrared Heating Hugo fa Thu, 18 Jun 2026 01:20:34 +0800 http://radiant-ir-heater.com/fa/posts/effective-photoresist-bake-with-ir/ Thu, 18 Jun 2026 01:20:34 +0800 http://radiant-ir-heater.com/fa/posts/effective-photoresist-bake-with-ir/ <p><img src="http://radiant-ir-heater.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png" alt="پخت مؤثر فوتورزیست با مادون قرمز"></p> <p>در فرآیند لیتوگرافی، تغییر دمای حرارتی معادل ۰.۵ درجه سانتی‌گراد کافی است تا کل محموله محصولات از بین برود. فرآیند حرارتی نرم، به منظور خارج کردن کامل حلال‌ها از روی ویفر انجام می‌شود؛ در حالی که فرآیند حرارتی سخت، باعث تثبیت پروفایل حرارتی می‌شود. وقتی که یکنواختی حرارتی از بین برود، کنترل اندازه ذرات نیز دچار مشکل می‌شود و تعداد ذرات افزایش می‌یابد.</p> <p><strong>آنچه ما ساختیم، و چرا اهمیت دارد</strong><br> ما ماژول حرارتی را روی الکترومغناطیس‌های موج کوتاه NIR قرار دادیم؛ این کار باعث می‌شود یکنواختی حرارتی در سطح ویفر حدود ±۰.۱ درجه سانتی‌گراد باشد. همچنین، پایداری دما نیز در طول شبانه‌روز حفظ می‌شود. این سیستم با استانداردهای اتاق‌های پاک از کلاس ۱ تا کلاس ۱۰۰ سازگار است؛ همچنین، در حین فرآیند حرارتی، هیچ ذره‌ای تولید نمی‌شود. پروفایل حرارتی نیز به طور قابل تکراری در هر محموله محصولات حفظ می‌شود.</p> http://radiant-ir-heater.com/fa/posts/spin-coater-bake-lamp/ Sun, 07 Jun 2026 01:32:57 +0800 http://radiant-ir-heater.com/fa/posts/spin-coater-bake-lamp/ <p><img src="http://radiant-ir-heater.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png" alt="لامپ پخت اسپین کوتر"></p> <p>در سالن لیتوگرافی، bake یک توقف نیست—این خط قرمز است. Soft bake حلال فتو رزین را تبخیر می‌کند. Hard bake تصویر ماسک را قبل از اچ تثبیت می‌کند. اگر لامپ شروع به جابجایی کند، هزینه آن را سریع می‌پردازید: بعد بحرانی غیر یکنواخت، edge bead و scum پس از توسعه. به همین دلیل است که لامپ bake اسپین کوتِر وجود دارد—برای حذف حدس‌وگمان حرارتی از معادله.</p> <p><strong>موارد مهم زیر کاپوت</strong></p> <p>لامپ bake را حول مادون قرمز موج کوتاه در یک محفظه کوارتزی ساختیم، زیرا انرژی را سریعاً مستقیماً به لایه فتو رزین منتقل می‌کند. نتیجه، یکنواختی حرارتی در سطح ویفر با دقت ±0.1°C در سراسر قطر کل پوشش و تکرارپذیری ثابت از لوط به لوط است. زمان پاسخ کمتر از یک ثانیه است، بنابراین بودجه حرارتی محکم باقی مانده و پروفایل bake مطابق دستورالعمل بدون بیش‌ازحد رفتن دنبال می‌شود. این لامپ در اتاق‌های تمیز کلاس 1–100 کار می‌کند و برای تولید ذرات صفر مهندسی شده است—زیرا در این صنعت هر نقص معلق در هوا به کاهش عملکرد منجر می‌شود.</p>