Cuisson efficace du réactif photochimique par IR
Sur le poste de lithographie, une variation de température de 0,5 °C pendant le processus de cuisson suffit pour rendre toute une série de wafers...
Lampe de cuisson pour spin coater
Sur la ligne de lithographie, la cuisson n’est pas une pause—c’est la limite à ne pas dépasser. La cuisson douce élimine le solvant du photoresist....