Cuisson efficace du réactif photochimique par IR

Thu, 18 Jun 2026 01:20:34 +0800

Sur le poste de lithographie, une variation de température de 0,5 °C pendant le processus de cuisson suffit pour rendre toute une série de wafers inutilisables. La cuisson douce permet d’éliminer proprement les solvants ; la cuisson forte, quant à elle, permet de fixer définitivement le profil thermique du wafer. Lorsque l’uniformité thermique est compromise, le contrôle de la largeur de bande du wafer devient difficile, et le nombre de particules présentes augmente.

Ce que nous avons conçu, et pourquoi c’est important
Nous avons intégré le module de cuisson à des émetteurs infrarouges à courte longueur d’onde, accompagnés d’un système thermique amélioré par du quartz. Cela permet d’obtenir une uniformité de température de ±0,1 °C sur l’ensemble du wafer, ainsi qu’une stabilité des paramètres de cuisson tout au long de la journée. Ce système est compatible avec des salles propres de classe 1 à 100, et ne produit aucune particule pendant le processus de cuisson. Les profils thermiques obtenus sont reproductibles d’une série à l’autre, ce qui permet de respecter précisément les spécifications requises.

Lampe de cuisson pour spin coater

Sun, 07 Jun 2026 01:32:57 +0800

Sur la ligne de lithographie, la cuisson n’est pas une pause—c’est la limite à ne pas dépasser. La cuisson douce élimine le solvant du photoresist. La cuisson dure fixe l’image du masque avant la gravure. Si la lampe commence à dériver, cela se paie rapidement : dimension critique non uniforme, bavure de bord et résidus après développement. C’est pourquoi la lampe de cuisson du spin coater existe—pour éliminer l’incertitude thermique.

Ce qui compte sous le capot
Nous avons conçu la lampe de cuisson autour de l’infrarouge à onde courte dans une enveloppe en quartz, car elle dépose l’énergie directement dans la couche de photoresist, rapidement. Le résultat est une uniformité thermique au niveau de la plaquette dans ±0,1°C sur l’ensemble du diamètre de revêtement, avec une répétabilité garantissant la constance d’un lot à l’autre. Le temps de réponse est inférieur à la seconde, ce qui maintient le budget thermique précis et permet au profil de cuisson de suivre la recette sans dépassement. Elle fonctionne en salles blanches de classes 1 à 100 et est conçue pour ne générer aucune particule—car dans ce métier, chaque défaut en suspension dans l’air réduit le rendement.

Cuire Au Four on Radiant Infrared Heating

Cuisson efficace du réactif photochimique par IR

Lampe de cuisson pour spin coater