http://radiant-ir-heater.com/fr/tags/photor%C3%A9sistant/ Recent content in Photorésistant on Radiant Infrared Heating Hugo fr Thu, 18 Jun 2026 01:20:34 +0800 http://radiant-ir-heater.com/fr/posts/effective-photoresist-bake-with-ir/ Thu, 18 Jun 2026 01:20:34 +0800 http://radiant-ir-heater.com/fr/posts/effective-photoresist-bake-with-ir/ <p><img src="http://radiant-ir-heater.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png" alt="Cuisson efficace du réactif photochimique par IR"></p> <p>Sur le poste de lithographie, une variation de température de 0,5 °C pendant le processus de cuisson suffit pour rendre toute une série de wafers inutilisables. La cuisson douce permet d’éliminer proprement les solvants ; la cuisson forte, quant à elle, permet de <a href="https://o-yate.com">fixer</a> définitivement le profil thermique du wafer. Lorsque l’uniformité thermique est compromise, le contrôle de la largeur de bande du wafer devient difficile, et le nombre de particules présentes augmente.</p> <p><strong>Ce que nous avons conçu, et pourquoi c’est important</strong><br> Nous avons intégré le module de cuisson à des émetteurs infrarouges à courte longueur d’onde, accompagnés d’un système thermique amélioré par du quartz. Cela permet d’obtenir une uniformité de température de ±0,1 °C sur l’ensemble du wafer, ainsi qu’une stabilité des paramètres de cuisson tout au long de la journée. Ce système est compatible avec des salles propres de classe 1 à 100, et ne produit aucune particule pendant le processus de cuisson. Les profils thermiques obtenus sont reproductibles d’une série à l’autre, ce qui permet de respecter précisément les spécifications requises.</p>