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		<title>Post on Radiant Infrared Heating</title>
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				<title>Chauffage infrarouge pour wafer après nettoyage</title>
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				<pubDate>Tue, 23 Jun 2026 13:22:11 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://radiant-ir-heater.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png&#34; alt=&#34;Chauffage infrarouge pour wafer après nettoyage&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Sur le plan de production, une légère humidité résiduelle après nettoyage, ainsi que la reformation de l’oxide naturel sur la surface de la pâte, peuvent nuire à l’adhérence du photo-résistant, sans même que vous vous en rendiez compte. Un léger dépassement des paramètres de chauffage, ou un &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;point&lt;/a&gt; chaud localisé, suffisent pour déstabiliser le processus de séchage. Les conséquences se font sentir plus tard : perte de qualité de la pâte après traitement chimique, ou formation de ponts entre les différentes structures sur la pâte. Nous avons donc conçu un chauffage infrarouge pour les wafers après nettoyage, afin d’éliminer ces problèmes.&lt;/p&gt;</description>
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