Lampe de cuisson pour spin coater

Sun, 07 Jun 2026 01:32:57 +0800

Sur la ligne de lithographie, la cuisson n’est pas une pause—c’est la limite à ne pas dépasser. La cuisson douce élimine le solvant du photoresist. La cuisson dure fixe l’image du masque avant la gravure. Si la lampe commence à dériver, cela se paie rapidement : dimension critique non uniforme, bavure de bord et résidus après développement. C’est pourquoi la lampe de cuisson du spin coater existe—pour éliminer l’incertitude thermique.

Ce qui compte sous le capot
Nous avons conçu la lampe de cuisson autour de l’infrarouge à onde courte dans une enveloppe en quartz, car elle dépose l’énergie directement dans la couche de photoresist, rapidement. Le résultat est une uniformité thermique au niveau de la plaquette dans ±0,1°C sur l’ensemble du diamètre de revêtement, avec une répétabilité garantissant la constance d’un lot à l’autre. Le temps de réponse est inférieur à la seconde, ce qui maintient le budget thermique précis et permet au profil de cuisson de suivre la recette sans dépassement. Elle fonctionne en salles blanches de classes 1 à 100 et est conçue pour ne générer aucune particule—car dans ce métier, chaque défaut en suspension dans l’air réduit le rendement.

Revêtement on Radiant Infrared Heating

Lampe de cuisson pour spin coater