http://radiant-ir-heater.com/hi/tags/%E0%A4%B8%E0%A4%AB%E0%A4%BE%E0%A4%88/ Recent content in सफाई on Radiant Infrared Heating Hugo hi Tue, 23 Jun 2026 13:22:11 +0800 http://radiant-ir-heater.com/hi/posts/post-cleaning-wafer-infrared-heater/ Tue, 23 Jun 2026 13:22:11 +0800 http://radiant-ir-heater.com/hi/posts/post-cleaning-wafer-infrared-heater/ <p><img src="http://radiant-ir-heater.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png" alt="सफाई के बाद वेफर को इन्फ्रारेड हीटर से गर्म किया जाता है।"></p> <p>फैब्रिकेशन फ्लोर पर, सफाई के बाद थोड़ी मात्रा में नमी एवं ऑक्साइड जमा हो जाता है; इसके कारण फोटोरेजिस्ट की चिपकने की क्षमता कम हो जाती है। ऐसी स्थिति में सॉफ्ट बेक प्रक्रिया प्रभावित हो जाती है। इसके परिणामस्वरूप एच-इटिंग के बाद वेफर की सतह पर समस्याएँ उत्पन्न हो जाती हैं। हमने ऐसी समस्याओं से निपटने हेतु पोस्ट-क्लीन वेफरों के लिए इन्फ्रारेड हीटर विकसित किया है।</p> <p><strong>तकनीकी दृष्टि से महत्वपूर्ण बातें:</strong><br> यह हीटर क्वार्ट्ज-रहित ऑप्टिकल पथ के माध्यम से शॉर्ट-वेव इन्फ्रारेड विकिरण भेजता है; इससे कोई कण नहीं बनते। इससे क्लास 1–100 क्लीनरूम में आवश्यक तापमान स्तर बना रहता है। वेफर की सतह पर तापमान स्थिर रहता है – ±0.1°C। इससे फोटोरेजिस्ट को सही तापमान पर सुखाया जा सकता है। प्रतिक्रिया तेज होती है; इससे तापीय सीमाओं को लांघे बिना ही उचित तापमान प्राप्त किया जा सकता है। यह हीटर स्टैंडर्ड सॉफ्ट बेक एवं हार्ड बेक प्रक्रियाओं को संभाल सकता है, एवं इसे इन-लाइन ट्रैकों या स्टैंडअलोन ड्रायिंग सेलों में भी उपयोग में लाया जा सकता है।</p>