<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Coater on Radiant Infrared Heating</title>
		<link>http://radiant-ir-heater.com/id/tags/coater/</link>
		<description>Recent content in Coater on Radiant Infrared Heating</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>id</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sat, 20 Jun 2026 02:23:20 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://radiant-ir-heater.com/id/tags/coater/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pemanas inframerah untuk proses pelapisan dan pengembangan bahan</title>
				<link>http://radiant-ir-heater.com/id/posts/coater-developer-infrared-heater/</link>
				<pubDate>Sat, 20 Jun 2026 02:23:20 +0800</pubDate>
				<guid>http://radiant-ir-heater.com/id/posts/coater-developer-infrared-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://radiant-ir-heater.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png&#34; alt=&#34;Pemanas inframerah untuk proses pelapisan dan pengembangan bahan&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di area litografi, perubahan suhu &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;sebesar&lt;/a&gt; 0,5°C selama proses pemanasan tidak dapat &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;dianggap&lt;/a&gt; sebagai “deviasi kecil”. Hal ini berdampak pada penurunan kualitas produk yang dihasilkan, hal ini bisa dilihat dari grafik keseragaman ketebalan lapisan fotoresist serta jumlah limbah yang dihasilkan. Pemanas inframerah yang digunakan harus mampu menjaga stabilitas suhu agar sesuai dengan kondisi optik dan fotoresist yang digunakan.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Kami merancang pemanas ini sedemikian rupa sehingga dapat mengontrol suhu di tingkat wafer. Emitter inframerah akan mengirimkan energi langsung ke wafer, sehingga proses pemanasan berjalan lebih cepat tanpa menyebabkan peningkatan suhu berlebihan di dalam ruang proses. Keseragaman suhu di seluruh permukaan wafer tetap berada dalam rentang ±0,1°C, sehingga bagian tepi wafer juga mendapatkan perlakuan pemanasan yang sama seperti bagian tengahnya.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
