<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Fotoresist on Radiant Infrared Heating</title>
		<link>http://radiant-ir-heater.com/id/tags/fotoresist/</link>
		<description>Recent content in Fotoresist on Radiant Infrared Heating</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>id</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 18 Jun 2026 01:20:34 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://radiant-ir-heater.com/id/tags/fotoresist/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pengeringan fotoresist yang efektif menggunakan sinar inframerah</title>
				<link>http://radiant-ir-heater.com/id/posts/effective-photoresist-bake-with-ir/</link>
				<pubDate>Thu, 18 Jun 2026 01:20:34 +0800</pubDate>
				<guid>http://radiant-ir-heater.com/id/posts/effective-photoresist-bake-with-ir/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://radiant-ir-heater.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;Pengeringan fotoresist yang efektif menggunakan sinar inframerah&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di area litografi, perubahan suhu selama proses pemanasan sebesar 0,5°C saja sudah cukup untuk membuat seluruh produksi menjadi tidak berguna. Proses pemanasan “lembut” bertujuan untuk menghilangkan pelarut secara efektif, sedangkan proses pemanasan “keras” berfungsi untuk mempertahankan profil suhu yang diinginkan. Jika keseragaman suhu tidak terjaga, maka kontrol ketebalan lapisan fotoresist akan terganggu, dan jumlah partikel yang dihasilkan akan meningkat.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang telah kami buat, dan mengapa hal tersebut penting&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Kami menggunakan emiter gelombang pendek NIR beserta sistem pendingin berbahan kuarsa untuk memastikan keseragaman suhu hingga ±0,1°C di seluruh permukaan wafer. Sistem ini juga memiliki stabilitas suhu yang tinggi, sehingga cocok &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;digunakan&lt;/a&gt; di ruang bersih dengan kelas kebersihan dari 1 hingga 100. Selain itu, sistem ini tidak menghasilkan partikel selama proses pemanasan. Profil suhu yang dihasilkan pun konsisten dari satu batch ke batch lainnya.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
