Infra Merah on Radiant Infrared Heating

Pemanas inframerah untuk oven di ruang bersih

Sat, 25 Jul 2026 02:46:45 +0800

Hentikan kerusakan akibat pecahan kaca: Jaga kebersihan wafer ketika pemanas inframerah rusak
Sejujurnya, dalam proses pengolahan wafer, satu saja lampu yang rusak dapat merusak seluruh proses produksi Anda. Dan tentu saja, seluruh batch silikon yang Anda hasilkan juga akan rusak.

Ketika Anda memproduksi dalam jumlah besar, secara tidak langsung Anda memberikan beban berlebih pada lampu inframerah tersebut. Jika tabung kuarsa tersebut rusak, hal ini bukanlah kerusakan yang “sopan”. Ini akan menyebabkan kekacauan; serpihan kaca dan partikel-partikel lainnya akan berserakan di seluruh ruang bersih Anda. Akibatnya, Anda harus melakukan pembersihan yang merepotkan, dan tentu saja, biaya yang dikeluarkan pun akan meningkat.

Pemanas inframerah yang kompatibel dengan vakum

Sat, 25 Jul 2026 02:38:56 +0800

Mengurangi Emisi Karbon di Pabrik Semikonduktor: Mengapa Pemanas Inframerah yang Beroperasi dalam kondisi vakum efektif

Membuat semikonduktor membutuhkan keseimbangan yang tepat. Diperlukan suhu yang sangat tinggi, tetapi suhu tersebut harus dihasilkan dalam kondisi vakum agar wafer tidak rusak. Selama ini, kita bergantung pada metode pemanasan resistif. Tapi sejujurnya, metode ini lambat. Banyak sekali energi yang terbuang hanya untuk mencapai suhu yang diinginkan, dan banyak energi tersebut hilang begitu saja—atau lebih tepatnya, masuk ke dinding mesin.

Pemanas kamar mandi inframerah modern

Tue, 21 Jul 2026 02:24:24 +0800

Mengapa Anda harus beralih dari pemanas lampu jenis halogen ke pemanas inframerah berstandar IP tinggi
Mari kita akui kenyataannya tentang pemanas lampu halogen yang sudah usang tersebut. Pada dasarnya, alat tersebut merupakan bohlam raksasa yang menghasilkan cahaya terang. Jika digunakan di kamar mandi, alat ini akan menjadi sumber masalah besar. Uap air dan percikan air yang terjadi di sana membuat alat ini tidak cocok digunakan di ruangan yang lembap. Biasanya, alat ini akan rusak atau tidak berfungsi dengan baik setelah beberapa waktu.

Pemanas inframerah setelah proses pembersihan wafer

Tue, 23 Jun 2026 13:22:11 +0800

Di lantai produksi, kelembapan yang masih tersisa setelah proses pembersihan, serta pertumbuhan oksida alami pada permukaan silikon, dapat mengurangi daya rekat lapisan fotoresist sebelum Anda menyadarinya. Hal ini akan menyebabkan masalah seperti penurunan kualitas permukaan silikon setelah proses etching, atau munculnya struktur berbentuk jembatan pada permukaan silikon selama proses litografi. Kami merancang pemanas inframerah untuk digunakan setelah proses pembersihan, agar ketidakpastian tersebut dapat dihilangkan.

Apa yang penting secara teknis?
Pemanas ini menggunakan emiter inframerah gelombang pendek yang beroperasi melalui jalur optik tanpa menggunakan kuarsa, sehingga tidak ada partikel yang terbentuk. Dengan demikian, tingkat kebersihan ruangan tetap terjaga sesuai standar Class 1–100. Keseragaman suhu di seluruh permukaan silikon tetap berada pada kisaran ±0,1°C, sehingga proses pengeringan fotoresist berjalan secara konsisten dari satu batch ke batch berikutnya. Responsnya cepat, sehingga proses pengeringan dapat dilakukan tanpa melebihi batas suhu yang ditentukan. Pemanas ini juga dapat digunakan untuk proses pengeringan jenis Soft Bake maupun Hard Bake, dan dapat dipasang dalam sistem pengeringan yang sudah ada atau secara mandiri.

Pemanas inframerah untuk proses pelapisan dan pengembangan bahan

Sat, 20 Jun 2026 02:23:20 +0800

Di area litografi, perubahan suhu sebesar 0,5°C selama proses pemanasan tidak dapat dianggap sebagai “deviasi kecil”. Hal ini berdampak pada penurunan kualitas produk yang dihasilkan, hal ini bisa dilihat dari grafik keseragaman ketebalan lapisan fotoresist serta jumlah limbah yang dihasilkan. Pemanas inframerah yang digunakan harus mampu menjaga stabilitas suhu agar sesuai dengan kondisi optik dan fotoresist yang digunakan.

Kami merancang pemanas ini sedemikian rupa sehingga dapat mengontrol suhu di tingkat wafer. Emitter inframerah akan mengirimkan energi langsung ke wafer, sehingga proses pemanasan berjalan lebih cepat tanpa menyebabkan peningkatan suhu berlebihan di dalam ruang proses. Keseragaman suhu di seluruh permukaan wafer tetap berada dalam rentang ±0,1°C, sehingga bagian tepi wafer juga mendapatkan perlakuan pemanasan yang sama seperti bagian tengahnya.