IR on Radiant Infrared Heating

Ujung keramik untuk pemancar IR

Sat, 25 Jul 2026 02:53:25 +0800

Mendapatkan lebih banyak panas di tempat yang memang dibutuhkan: Emitter IR berlapis emas
Saat Anda memanaskan wafer silikon, setiap bit energi sangatlah penting. Masalah dengan emitter IR biasa adalah bahwa mereka mudah kehilangan energi yang dihasilkannya. Sebagian besar panas tersebut hilang melalui bagian belakang lampu, sehingga terjadi pemborosan energi dan mesin menjadi panas secara tidak perlu.

Kami mengatasi masalah ini dengan melapisi permukaan kuarsa tersebut dengan emas.
Mengapa emas? Karena emas merupakan bahan yang sangat efektif dalam memantulkan radiasi inframerah. Aluminium atau baja yang sudah diproses sekalipun tidak mampu bersaing dengannya. Dengan menambahkan lapisan emas di bagian belakang emitter, kita dapat mengarahkan panas tersebut kembali ke arah wafer.

Sensor IR berteknologi tinggi untuk wafer

Sat, 25 Jul 2026 02:32:29 +0800

Hentikan Pemanasan Udara: Cara Lebih Cerdas untuk Memproses Wafer
Mari kita bicarakan tentang oven berbasis resistansi lama. Memang, oven tersebut masih bisa digunakan, tetapi sebenarnya itu hanyalah alat pemanas raksasa. Anda harus mengeluarkan biaya yang besar untuk memanaskan seluruh ruangan dan udara di dalamnya, hanya agar wafer mencapai suhu yang tepat. Itu merupakan pemborosan energi.

Itulah sebabnya kita beralih ke metode pemanasan inframerah (IR). Alih-alih memanaskan seluruh ruangan, panas tersebut ditujukan langsung ke wafer. Cara ini lebih efisien, cepat, dan juga menghemat energi yang digunakan oleh ruang kerja yang bersih tersebut.

Reflektor aluminium untuk lampu IR

Sun, 28 Jun 2026 01:46:53 +0800

Di lantai proses litografi, Anda pasti tahu prosedurnya. Sedikit penyimpangan sebesar setengah derajat pada posisi wafer selama proses pemanasan fotoresist saja sudah cukup untuk mengubah proses yang seharusnya stabil menjadi proses yang sulit dikendalikan. Kita mematuhi spesifikasi suhu yang ditetapkan karena keseragaman suhu sangat penting untuk menjaga kualitas hasil produksi. Kontrol ini dimulai dari sistem lampu IR.

Apa yang benar-benar penting di balik semuanya
Kami menentukan spesifikasi reflektor aluminium untuk lampu IR agar panas yang dihasilkan bersifat konsisten dan seragam. Geometri reflektor disesuaikan sedemikian rupa sehingga cahaya yang dihasilkan dapat merata ke seluruh permukaan wafer, dengan tingkat keseragaman sekitar ±0,1°C. Permukaan reflektor juga dilapisi bahan khusus agar tidak mengeluarkan gas berbahaya, sehingga bisa digunakan di ruang bersih kelas 1–100 tanpa masalah.

Pengeringan fotoresist yang efektif menggunakan sinar inframerah

Thu, 18 Jun 2026 01:20:34 +0800

Di area litografi, perubahan suhu selama proses pemanasan sebesar 0,5°C saja sudah cukup untuk membuat seluruh produksi menjadi tidak berguna. Proses pemanasan “lembut” bertujuan untuk menghilangkan pelarut secara efektif, sedangkan proses pemanasan “keras” berfungsi untuk mempertahankan profil suhu yang diinginkan. Jika keseragaman suhu tidak terjaga, maka kontrol ketebalan lapisan fotoresist akan terganggu, dan jumlah partikel yang dihasilkan akan meningkat.

Apa yang telah kami buat, dan mengapa hal tersebut penting
Kami menggunakan emiter gelombang pendek NIR beserta sistem pendingin berbahan kuarsa untuk memastikan keseragaman suhu hingga ±0,1°C di seluruh permukaan wafer. Sistem ini juga memiliki stabilitas suhu yang tinggi, sehingga cocok digunakan di ruang bersih dengan kelas kebersihan dari 1 hingga 100. Selain itu, sistem ini tidak menghasilkan partikel selama proses pemanasan. Profil suhu yang dihasilkan pun konsisten dari satu batch ke batch lainnya.

Pengatur tegangan untuk fab IR

Tue, 09 Jun 2026 01:15:55 +0800

Di lantai fab, pemanggangan photoresist bukanlah pilihan—itu adalah toleransi yang harus dipatuhi. Drift 0,5°C di seluruh wafer akan terlihat sebagai variasi lebar garis setelah eksposur, dan itu berujung pada kerugian hasil produksi, secara sederhana. Kami merancang regulator tegangan kami untuk IR fab guna menjaga profil termal tetap pada posisi yang dibutuhkan: stabil, dapat diulang, dan terkendali.

Apa yang penting secara teknis
IR memang cepat panas, tapi hanya berguna saat medan panasnya seragam. Regulator kami mempertahankan kontrol tegangan ketat pada bus emitter IR, sehingga output tetap stabil meskipun terjadi line sag dan pergantian beban. Anda mendapatkan uniformitas sub-milimeter di zona panas dan stabilitas setpoint ±0,1°C pada bidang wafer. Ini bukan slogan—melainkan pengurangan terukur pada gradien termal. Unit ini kompatibel dengan cleanroom untuk Kelas 1–100, dengan material dan kemasan yang dipilih untuk menjaga jumlah partikel tetap rendah. Targetnya adalah nol generasi partikel, dan kami memantau ini dengan monitoring selama proses.