<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Postingan on Radiant Infrared Heating</title>
		<link>http://radiant-ir-heater.com/id/tags/postingan/</link>
		<description>Recent content in Postingan on Radiant Infrared Heating</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>id</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Tue, 23 Jun 2026 13:22:11 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://radiant-ir-heater.com/id/tags/postingan/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pemanas inframerah setelah proses pembersihan wafer</title>
				<link>http://radiant-ir-heater.com/id/posts/post-cleaning-wafer-infrared-heater/</link>
				<pubDate>Tue, 23 Jun 2026 13:22:11 +0800</pubDate>
				<guid>http://radiant-ir-heater.com/id/posts/post-cleaning-wafer-infrared-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://radiant-ir-heater.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png&#34; alt=&#34;Pemanas inframerah setelah proses pembersihan wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di lantai produksi, kelembapan yang masih tersisa setelah proses pembersihan, serta pertumbuhan oksida alami pada permukaan silikon, dapat mengurangi daya rekat lapisan fotoresist sebelum Anda menyadarinya. Hal ini akan menyebabkan masalah seperti penurunan kualitas permukaan silikon setelah proses etching, atau munculnya struktur berbentuk jembatan pada permukaan silikon selama proses litografi. Kami merancang pemanas inframerah untuk digunakan setelah proses pembersihan, agar ketidakpastian tersebut dapat dihilangkan.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;penting&lt;/a&gt; secara teknis?&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Pemanas ini menggunakan emiter inframerah gelombang pendek yang beroperasi melalui jalur optik tanpa menggunakan kuarsa, sehingga tidak ada partikel yang terbentuk. Dengan demikian, tingkat kebersihan ruangan tetap terjaga sesuai standar Class 1–100. Keseragaman suhu di seluruh permukaan silikon tetap berada pada kisaran ±0,1°C, sehingga proses pengeringan fotoresist berjalan secara konsisten dari satu batch ke batch berikutnya. Responsnya cepat, sehingga proses pengeringan dapat dilakukan tanpa melebihi batas suhu yang ditentukan. Pemanas ini juga dapat digunakan untuk proses pengeringan jenis Soft Bake maupun Hard Bake, dan dapat dipasang dalam sistem pengeringan yang sudah ada atau secara mandiri.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
