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		<title>Breve on Radiant Infrared Heating</title>
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				<title>Lampada a infrarossi a onde corte semiconduttore</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://radiant-ir-heater.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Lampada a infrarossi a onde corte semiconduttore&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Sulla linea di litografia, il tempo non è mai a tuo favore. Una soft bake che devia anche di 2°C altera l’evaporazione del solvente, modifica il flusso del photoresist e fa uscire il controllo della dimensione critica dalle specifiche. L’instabilità della hard bake provoca scumming e perdita di adesione, e ogni wafer scartato ti costa in tempo, sostanze chimiche e capacità della cleanroom. Il controllo termico non è un “di cui si può fare a meno” — è un vincolo di processo.&lt;/p&gt;</description>
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