Elemento riscaldante per la lavorazione dei semiconduttori

Sat, 06 Jun 2026 01:24:58 +0800

Sul pavimento di fabbrica la temperatura non è una variabile da modificare a piacimento, ma una specifica da rispettare con precisione. Un’escursione di mezzo grado durante il soft bake o hard bake del photoresist può modificare le dimensioni critiche, generare molti scarti e far perdere ore di processo. Costruiamo gli elementi riscaldanti per il processo semiconduttore per eliminare questo rischio.

Cosa conta realmente

Si parla di uniformità termica a livello di wafer entro ±0,1°C nell’area attiva. Questo si traduce in controllo ripetibile delle dimensioni critiche (CD) e profili resist uniformi, senza compromessi. Il design è idoneo per cleanroom da Classe 1 a 100, mantiene bassa la fuoriuscita di gas e non genera eventi particellari—garantendo la protezione della resa in litografia e integrazione track.

Elaborazione on Radiant Infrared Heating

Elemento riscaldante per la lavorazione dei semiconduttori