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		<title>Post on Radiant Infrared Heating</title>
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				<title>Riscaldatore a infrarossi per wafer dopo la pulizia</title>
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				<pubDate>Tue, 23 Jun 2026 13:22:11 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://radiant-ir-heater.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png&#34; alt=&#34;Riscaldatore a infrarossi per wafer dopo la pulizia&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Nel reparto di produzione, una piccola quantità di umidità residua dopo la pulizia, unita alla ricrescita dell’ossido naturale sulla superficie del wafer, può compromettere l’aderenza del &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;fotoresist&lt;/a&gt;, prima ancora che se ne possa accorgere. Un aumento graduale della temperatura o dei punti caldi possono far sì che il processo di essiccazione non avvenga correttamente. I problemi si manifestano in seguito: perdita di adesione tra i vari componenti del wafer dopo l’etching, o problemi legati alla litografia. Abbiamo progettato un riscaldatore a infrarossi per i wafer appena puliti, al fine di eliminare queste incertezze.&lt;/p&gt;</description>
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