乾燥 on Radiant Infrared Heating

製造工程における乾燥部門のエネルギー診断

Mon, 27 Jul 2026 16:58:57 +0800

半導体製造ラインでの電力の無駄遣いをやめましょう。
正直に言って、半導体製造ラインで電力を無駄にするというのは、単にお金を捨てるようなものです。それは運営コストに大きな負担をかけます。
問題は、一般的な反射板があまり効果的でないことです。これらの反射板は赤外線エネルギーをあちこちに散乱させてしまうため、支払った電力の多くがウェーハに届かないのです。
私たちは、高純度の金でコーティングされた反射板を使用することでこの問題を解決しました。そうすれば、エネルギーが無駄に散乱することなく、正確にウェーハに集中します。

MEMSセンサーワイヤー用乾燥ヒーター

Fri, 24 Jul 2026 09:26:24 +0800

MEMSウェーハを問題なく乾燥させる方法
MEMSセンサーを製造する際、最も避けたいのは、水分や溶剤の汚れが製品の品質を損なうことです。しかし、問題は、ウェーハを完全に乾燥させつつ、材料に負担をかけず、また不純物が混入しないようにすることです。
そこで、私たちは短波長の赤外線ヒーターを使用します。部屋全体を加熱するのは時間やエネルギーの無駄ですが、赤外線はエネルギーを直接ウェーハの表面に送り届けます。これにより、効率的かつクリーンな乾燥が可能になります。

マイクロLEDウェーハ乾燥ヒーター

Sat, 27 Jun 2026 01:43:48 +0800

Micro LEDウェーハが最終的な洗浄を終えて、乾燥を待っている様子を見てみましょう。この工程では、状況がどれだけ急速に悪化するかわかりません。もしヒーターの温度が数十分の1度でもずれてしまうと、ウェーハの端に水分が残ったままになったり、フォトレジストのパターンが崩れたりしてしまいます。その結果、リソグラフィーを始める前から品質が低下してしまいます。私たちは、このような不確実性を排除するために、Micro LEDウェーハ用の乾燥ヒーターを開発しました。

内部で重要なのは何か この装置は、石英窓の後ろに短波長の赤外線素子を備えているため、迅速かつ効率的に加熱・冷却が行えます。ウェーハ全体の温度の均一性は±0.1℃以内に保たれます。これにより、ウェーハの端に残った水分がきちんと除去され、繰り返し処理を行ってもフォトレジストのパターンが安定します。

ウェーハ乾燥における赤外線と対流の比較

Wed, 24 Jun 2026 01:17:17 +0800

ファブ内では、熱に関する誤差は、交渉の対象となる「許容範囲」ではありません。フォトレジストのソフトベイク中に0.5℃の温度変動があるだけで、重要な寸法が狂ってしまいます。また、洗浄後に残ったわずかな水分も、次のリソグラフィ工程で問題を引き起こす可能性があります。対流オーブンは、キャリア上で感じられるほどの熱の不均一性やバッチ間の温度差を解消するのに役立ちます。赤外線も有効な手段ですが、それは半導体製造の観点から設計されている場合に限ります。