<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>清掃 on Radiant Infrared Heating</title>
		<link>http://radiant-ir-heater.com/ja/tags/%E6%B8%85%E6%8E%83/</link>
		<description>Recent content in 清掃 on Radiant Infrared Heating</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ja</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Tue, 23 Jun 2026 13:22:11 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://radiant-ir-heater.com/ja/tags/%E6%B8%85%E6%8E%83/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>洗浄後ウェーハ用赤外線ヒーター</title>
				<link>http://radiant-ir-heater.com/ja/posts/post-cleaning-wafer-infrared-heater/</link>
				<pubDate>Tue, 23 Jun 2026 13:22:11 +0800</pubDate>
				<guid>http://radiant-ir-heater.com/ja/posts/post-cleaning-wafer-infrared-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://radiant-ir-heater.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png&#34; alt=&#34;洗浄後ウェーハ用赤外線ヒーター&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;製造現場では、洗浄後に残るわずかな水分や酸化膜の再形成により、気づく前にフォトレジストの接着力が低下してしまいます。わずかな温度変動や局所的な高温部分があるだけで、ソフトベイク処理の条件が崩れてしまいます。その結果、エッチング後にウェーハの強度が低下したり、リソグラフィ工程で特徴的な形状が乱れたりします。私たちは、このような不確実性を排除するために、洗浄後のウェーハ用の赤外線ヒーターを開発しました。&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
