http://radiant-ir-heater.com/ms/tags/bakar/ Recent content in Bakar on Radiant Infrared Heating Hugo ms Thu, 18 Jun 2026 01:20:34 +0800 http://radiant-ir-heater.com/ms/posts/effective-photoresist-bake-with-ir/ Thu, 18 Jun 2026 01:20:34 +0800 http://radiant-ir-heater.com/ms/posts/effective-photoresist-bake-with-ir/ <p><img src="http://radiant-ir-heater.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png" alt="Proses pembakaran bahan fotoresist yang efektif menggunakan gelombang inframerah."></p> <p>Di tahap litografi, perubahan suhu semasa proses pembakaran sebanyak 0.5°C sudah cukup untuk memusnahkan keseluruhan kumpulan wafer yang diproses. Proses pembakaran “lembut” bertujuan untuk mengeluarkan pelarut daripada permukaan wafer dengan lancar; manakala proses pembakaran “keras” pula bertujuan untuk menstabilkan profil suhu wafer tersebut. Apabila keseragaman suhu terganggu, kawalan ketepatan ukuran wafer akan terjejas, dan bilangan zarah di permukaan wafer akan meningkat.</p> <p><strong>Apa yang telah kami bina, dan mengapa ia penting</strong><br> Kami menggunakan modul pembakaran yang disambungkan pada pengeluar cahaya inframerah gelombang pendek, bersama-sama dengan sistem pemanasan berbasis kuarsa. Ini membolehkan kita mencapai keseragaman suhu sebanyak ±0.1°C pada seluruh permukaan wafer, serta kestabilan suhu yang tinggi sepanjang masa. Modul ini sesuai digunakan dalam ruang bersih dari kelas 1 hingga kelas 100, dan <a href="https://henruite.com">tidak</a> menghasilkan zarah semasa proses pembakaran. Profil suhu yang dihasilkan juga konsisten dari satu kumpulan wafer ke kumpulan wafer yang lain.</p> http://radiant-ir-heater.com/ms/posts/spin-coater-bake-lamp/ Sun, 07 Jun 2026 01:32:57 +0800 http://radiant-ir-heater.com/ms/posts/spin-coater-bake-lamp/ <p><img src="http://radiant-ir-heater.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png" alt="Lampu pembakar pelapis putar"></p> <p>Pada lantai litografi, proses bake bukanlah jeda—ia adalah garis pemisah. Soft bake menghilangkan pelarut photoresist. Hard bake mengunci imej topeng sebelum proses etch. Jika lampu mula bergerak, anda akan menanggung akibatnya dengan cepat: dimensi kritikal tidak seragam, edge bead, dan scum selepas proses pembangunan. Itulah sebabnya lampu bake spin coater wujud—untuk menghapuskan ketidaktentuan haba dalam proses.</p> <p><strong>Apa yang penting di dalamnya</strong><br> Kami membina lampu bake berdasarkan inframerah gelombang pendek dalam sarung kuarsa, kerana ia terus membekalkan tenaga ke lapisan photoresist dengan cepat. Hasilnya adalah keseragaman suhu tahap wafer dalam ±0.1°C merentasi diameter lapisan penuh, serta kebolehulangan yang konsisten dari lot ke lot. Masa tindak balas adalah kurang dari satu saat, jadi bajet haba kekal ketat dan profil bake mengikuti resipi tanpa lebihan haba. Ia beroperasi dalam bilik bersih kelas 1–100 dan direka untuk tiada penghasilan <a href="https://goldisgood.com">zarah</a>—kerana dalam bidang ini, setiap kecacatan <a href="https://o-yate.com">udara</a> memberi kesan kepada hasil produk.</p>