http://radiant-ir-heater.com/ms/tags/fotoresistant/ Recent content in Fotoresistant on Radiant Infrared Heating Hugo ms Thu, 18 Jun 2026 01:20:34 +0800 http://radiant-ir-heater.com/ms/posts/effective-photoresist-bake-with-ir/ Thu, 18 Jun 2026 01:20:34 +0800 http://radiant-ir-heater.com/ms/posts/effective-photoresist-bake-with-ir/ <p><img src="http://radiant-ir-heater.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png" alt="Proses pembakaran bahan fotoresist yang efektif menggunakan gelombang inframerah."></p> <p>Di tahap litografi, perubahan suhu semasa proses pembakaran sebanyak 0.5°C sudah cukup untuk memusnahkan keseluruhan kumpulan wafer yang diproses. Proses pembakaran “lembut” bertujuan untuk mengeluarkan pelarut daripada permukaan wafer dengan lancar; manakala proses pembakaran “keras” pula bertujuan untuk menstabilkan profil suhu wafer tersebut. Apabila keseragaman suhu terganggu, kawalan ketepatan ukuran wafer akan terjejas, dan bilangan zarah di permukaan wafer akan meningkat.</p> <p><strong>Apa yang telah kami bina, dan mengapa ia penting</strong><br> Kami menggunakan modul pembakaran yang disambungkan pada pengeluar cahaya inframerah gelombang pendek, bersama-sama dengan sistem pemanasan berbasis kuarsa. Ini membolehkan kita mencapai keseragaman suhu sebanyak ±0.1°C pada seluruh permukaan wafer, serta kestabilan suhu yang tinggi sepanjang masa. Modul ini sesuai digunakan dalam ruang bersih dari kelas 1 hingga kelas 100, dan <a href="https://henruite.com">tidak</a> menghasilkan zarah semasa proses pembakaran. Profil suhu yang dihasilkan juga konsisten dari satu kumpulan wafer ke kumpulan wafer yang lain.</p>