<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Konveksi on Radiant Infrared Heating</title>
		<link>http://radiant-ir-heater.com/ms/tags/konveksi/</link>
		<description>Recent content in Konveksi on Radiant Infrared Heating</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 24 Jun 2026 01:17:17 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://radiant-ir-heater.com/ms/tags/konveksi/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Inframerah berbanding kaedah pemindahan haba konvektif untuk pengeringan wafer</title>
				<link>http://radiant-ir-heater.com/ms/posts/infrared-vs-convection-for-wafer-drying/</link>
				<pubDate>Wed, 24 Jun 2026 01:17:17 +0800</pubDate>
				<guid>http://radiant-ir-heater.com/ms/posts/infrared-vs-convection-for-wafer-drying/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://radiant-ir-heater.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png&#34; alt=&#34;Inframerah berbanding kaedah pemindahan haba konvektif untuk pengeringan wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di bilik pengeluaran wafer, ralat suhu bukanlah sesuatu yang boleh dikompromikan. Perubahan suhu sebanyak 0.5°C semasa proses pemanasan photoresist sudah cukup untuk mengganggu dimensi-komponen penting pada wafer tersebut. Selain itu, kelembapan yang masih ada selepas proses pembersihan juga boleh menimbulkan masalah pada lapisan litografi seterusnya. Dapur konveksi dapat membantu mengatasi masalah perbezaan suhu antara bahagian-bahagian wafer. Sinar inframerah pula merupakan cara yang lebih efektif, tetapi ia hanya berkesan jika digunakan dengan cara yang tepat, bukan sekadar menggunakan haba semata-mata.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
