<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Mengeringkan on Radiant Infrared Heating</title>
		<link>http://radiant-ir-heater.com/ms/tags/mengeringkan/</link>
		<description>Recent content in Mengeringkan on Radiant Infrared Heating</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sat, 27 Jun 2026 01:43:48 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://radiant-ir-heater.com/ms/tags/mengeringkan/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pemanas untuk mengeringkan wafer Micro LED</title>
				<link>http://radiant-ir-heater.com/ms/posts/micro-led-wafer-drying-heater/</link>
				<pubDate>Sat, 27 Jun 2026 01:43:48 +0800</pubDate>
				<guid>http://radiant-ir-heater.com/ms/posts/micro-led-wafer-drying-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://radiant-ir-heater.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png&#34; alt=&#34;Pemanas untuk mengeringkan wafer Micro LED&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Lihatlah wafer Micro LED yang baru selesai dicuci, dan ia dibiarkan di situ sambil &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;menunggu&lt;/a&gt; untuk kering. Dalam proses pengeluaran, kita tahu betapa cepatnya segala perkara boleh berubah menjadi tidak terkawal. Jika suhu pemanas berubah walaupun sedikit sahaja, titisan air pada tepi wafer akan kekal ada, pola fotoresist akan berubah, dan kualiti produk akan merosot sebelum proses litografi bermula. Kami telah mencipta pemanas khusus untuk mengeringkan wafer Micro LED ini, agar variasi suhu dapat dikurangkan.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>Inframerah berbanding kaedah pemindahan haba konvektif untuk pengeringan wafer</title>
				<link>http://radiant-ir-heater.com/ms/posts/infrared-vs-convection-for-wafer-drying/</link>
				<pubDate>Wed, 24 Jun 2026 01:17:17 +0800</pubDate>
				<guid>http://radiant-ir-heater.com/ms/posts/infrared-vs-convection-for-wafer-drying/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://radiant-ir-heater.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png&#34; alt=&#34;Inframerah berbanding kaedah pemindahan haba konvektif untuk pengeringan wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di bilik pengeluaran wafer, ralat suhu bukanlah sesuatu yang boleh dikompromikan. Perubahan suhu sebanyak 0.5°C semasa proses pemanasan photoresist sudah cukup untuk mengganggu dimensi-komponen penting pada wafer tersebut. Selain itu, kelembapan yang masih ada selepas proses pembersihan juga boleh menimbulkan masalah pada lapisan litografi seterusnya. Dapur konveksi dapat membantu mengatasi masalah perbezaan suhu antara bahagian-bahagian wafer. Sinar inframerah pula merupakan cara yang lebih efektif, tetapi ia hanya berkesan jika digunakan dengan cara yang tepat, bukan sekadar menggunakan haba semata-mata.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
