http://radiant-ir-heater.com/ms/tags/pembersihan/ Recent content in Pembersihan on Radiant Infrared Heating Hugo ms Tue, 23 Jun 2026 13:22:11 +0800 http://radiant-ir-heater.com/ms/posts/post-cleaning-wafer-infrared-heater/ Tue, 23 Jun 2026 13:22:11 +0800 http://radiant-ir-heater.com/ms/posts/post-cleaning-wafer-infrared-heater/ <p><img src="http://radiant-ir-heater.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png" alt="Pemanas inframerah untuk wafer selepas proses pembersihan"></p> <p>Di lantai pengeluaran, kelembapan yang masih ada selepas proses pembersihan, serta pertumbuhan oksida semula jadi pada permukaan wafer, akan mengganggu daya lekat <a href="https://goldisgood.com">bahan</a> fotoresist sebelum anda sempat menyedarinya. Satu titik panas yang kecil sahaja sudah cukup untuk merosakkan proses pembakaran bahan fotoresist tersebut. Akibatnya, ketebalan lapisan fotoresist tidak akan konsisten, dan ini akan memberi kesan negatif terhadap kualiti wafer yang dihasilkan. Kami telah mencipta pemanas inframerah khas untuk <a href="https://henruite.com">mengatasi</a> masalah ini.</p> <p><strong>Apa yang penting dari segi teknikal</strong><br> Pemanas ini menggunakan pancaran inframerah gelombang pendek melalui laluan optik tanpa menggunakan kuarsa, agar tiada zarah-zarah asing yang terkumpul pada permukaan wafer. Ini memastikan suhu pada wafer tetap konsisten dalam lingkungan ±0.1°C, sehingga proses pembakaran bahan fotoresist dapat berjalan dengan lancar. Tindak balas pemanas ini sangat cepat, jadi ia boleh digunakan untuk pelbagai proses pembakaran tanpa melebihi had suhu yang ditetapkan. Pemanas ini juga sesuai untuk digunakan dalam proses pembakaran jenis Soft Bake dan Hard Bake, serta boleh disambungkan ke sistem pengeringan lain.</p>