Pemanas inframerah untuk proses pelinciran dan pengembangan bahan.

Sat, 20 Jun 2026 02:23:20 +0800

Di bahagian proses litografi, perubahan suhu sebanyak 0.5°C semasa proses pembakaran lembut atau keras bukanlah “penyimpangan yang kecil”. Ia merupakan pengurangan kualiti produk yang dihasilkan – ini dapat dilihat dengan jelas pada graf pelbagai suhu pada wafer serta pada hasil kerja yang tidak berkualiti. Pemanas inframerah yang digunakan dalam proses pembakaran perlu memastikan kestabilan suhu yang tinggi, agar sesuai dengan spesifikasi optik dan bahan fotoresist yang digunakan.

Kami merancang pemanas ini agar dapat dikawal pada tahap wafer itu sendiri. Array pemancar inframerah akan menghantar tenaga secara langsung ke wafer, sehingga proses pembakaran berlaku dengan cepat tanpa menyebabkan peningkatan suhu yang berlebihan di dalam bilik proses. Kestabilan suhu pada permukaan wafer kekal dalam lingkungan ±0.1°C – ini bermakna bahagian tepi wafer akan mendapat suhu yang sama seperti bahagian tengahnya.

Pengilap on Radiant Infrared Heating

Pemanas inframerah untuk proses pelinciran dan pengembangan bahan.