<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Unit on Radiant Infrared Heating</title>
		<link>http://radiant-ir-heater.com/ms/tags/unit/</link>
		<description>Recent content in Unit on Radiant Infrared Heating</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 25 Jun 2026 01:38:41 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://radiant-ir-heater.com/ms/tags/unit/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampu inframerah dengan unit pisau udara</title>
				<link>http://radiant-ir-heater.com/ms/posts/infrared-lamp-with-air-knife-unit/</link>
				<pubDate>Thu, 25 Jun 2026 01:38:41 +0800</pubDate>
				<guid>http://radiant-ir-heater.com/ms/posts/infrared-lamp-with-air-knife-unit/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://radiant-ir-heater.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png&#34; alt=&#34;Lampu inframerah dengan unit pisau udara&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Dalam proses litografi, perubahan suhu sebanyak 0.5°C sahaja sudah cukup untuk menyebabkan perubahan pada dimensi kritikal cip &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;tersebut&lt;/a&gt;, iaitu dalam lingkungan nanometer. Ini &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;bermakna&lt;/a&gt; banyak bahan yang tidak berkualiti akan terhasil. Kami telah mencipta lampu inframerah yang dilengkapi dengan alat udara berkelajuan tinggi, agar suhu dapat dikawal dengan tepat pada permukaan wafer, dari satu giliran ke giliran yang lain.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Ketepatan pemanasan inframerah:&lt;/strong&gt; Ketepatan dan kebolehulangan yang sangat tinggi, hingga tahap sub-milimeter. Sistem ini menggunakan pemancar gelombang pendek untuk menghantar tenaga secara langsung ke lapisan fotoresist, dengan cepat. Kawalan berterusan memastikan suhu tetap berada dalam lingkungan ±0.1°C. Reka bentuk berdasarkan kuarsa membantu mengekalkan profil haba yang stabil dan konsisten, serta memastikan keseragaman suhu di seluruh permukaan wafer.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
