Aluminiumreflector voor IR lamp

Sun, 28 Jun 2026 01:46:53 +0800

Op de lithografielijn is het proces natuurlijk bekend. Een afwijking van een halve graad op het wafer tijdens het drogen van de fotorezist is al voldoende om een stabiel proces om te zetten in een probleem wat betreft de productiekwaliteit. Er worden strenge specificaties gehanteerd voor de temperatuur tijdens het drogen – de temperatuurnetheid bepaalt immers de nauwkeurigheid van de lijnen op het wafer. En deze controle begint al bij het IR-lampensysteem.

Wat er echt toe doet Voor de IR-lampen wordt gebruik gemaakt van aluminiumreflectoren die zorgen voor een reproduceerbare en ruimtelijk stabiele warmteafgifte. De geometrie van de reflectoren is zo ingesteld dat de verlichting gelijkmatig over het wafer wordt verdeeld, met een temperatuurnetheid van ±0,1°C. Het oppervlak van de reflectoren is gepasseerst en afgesloten, zodat ze kunnen worden gebruikt in schone kamers van klasse 1–100, zonder dat er gasen vrijkomen.

Aluminium on Radiant Infrared Heating

Aluminiumreflector voor IR lamp