<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Convectie on Radiant Infrared Heating</title>
		<link>http://radiant-ir-heater.com/nl/tags/convectie/</link>
		<description>Recent content in Convectie on Radiant Infrared Heating</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>nl</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 24 Jun 2026 01:17:17 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://radiant-ir-heater.com/nl/tags/convectie/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Infrarood versus convectie voor het drogen van wafers</title>
				<link>http://radiant-ir-heater.com/nl/posts/infrared-vs-convection-for-wafer-drying/</link>
				<pubDate>Wed, 24 Jun 2026 01:17:17 +0800</pubDate>
				<guid>http://radiant-ir-heater.com/nl/posts/infrared-vs-convection-for-wafer-drying/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://radiant-ir-heater.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png&#34; alt=&#34;Infrarood versus convectie voor het drogen van wafers&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Op de productielijn is thermische afwijking geen ‘tolerantie’ die je kunt bespreken. Een afwijking van 0,5°C tijdens het verhitten van de fotoresist is al voldoende om de belangrijke maten en afmetingen te beïnvloeden. Ook een beetje overtollige vochtigheid na het schoonmaken kan later problemen veroorzaken bij de volgende lithografische stap. Convectiekamers helpen tegen thermische verschillen en ongelijkmatigheden die zich over het oppervlak van de wafer verspreiden. Infrarood kan een goede oplossing zijn, maar alleen als het op een goede manier wordt &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;gebruikt&lt;/a&gt;, met rekening houdend met de vereisten voor halfgeleiders – en niet alleen op basis van warmte.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
