IR on Radiant Infrared Heating

Ceramische eindkap voor IR emitter

Sat, 25 Jul 2026 02:53:25 +0800

Meer warmte op de plek waar het echt nodig is: IR-emitters met goudlaag
Wanneer je siliciumplakjes opwarmt, telt elke energieboost. Het probleem met standaard IR-emitters is dat ze warmte laten ontsnappen. Een groot deel van de warmte verdwijnt gewoon aan de achterkant van de lamp, waardoor er energie verspild wordt en de machine onnodig wordt opgewarmd.

We hebben dit opgelost door het kwarts te bedekken met goud.
Waarom goud? Omdat het uitstekend is in het weerkaatsen van infraroodstraling. Aluminium of gepolijst staal kan dit niet evenaren. Door een goudlaag op de achterkant van de emitter te plaatsen, wordt de warmte teruggekaatst richting het plakje. Hierdoor kun je hogere oppervlaktetemperaturen bereiken, zonder dat je de stroomsterkte hoeft te verhogen. Het is dus efficiënter.

Precisielaser IR sensor voor wafer

Sat, 25 Jul 2026 02:32:29 +0800

Stop met het opwarmen van de lucht: een slimmere manier om wafers te verwerken

Laten we het hebben over de oude resistieve ovens. Die werken inderdaad, maar ze zijn in feite gewoon enorme ruimteverwarmers. Je besteedt een fortuin aan het opwarmen van de hele kamer en alle lucht daarin, alleen maar om de wafer op de juiste temperatuur te brengen. Dat is verspilling.

Daarom zijn we overgestapt op infraroodverwarming. In plaats van de hele ruimte op te warmen, sturen we de hitte rechtstreeks naar de wafer. Het is schoner, sneller, en het voorkomt dat de zuiverruimte zinloos veel energie verbruikt.

Aluminiumreflector voor IR lamp

Sun, 28 Jun 2026 01:46:53 +0800

Op de lithografielijn is het proces natuurlijk bekend. Een afwijking van een halve graad op het wafer tijdens het drogen van de fotorezist is al voldoende om een stabiel proces om te zetten in een probleem wat betreft de productiekwaliteit. Er worden strenge specificaties gehanteerd voor de temperatuur tijdens het drogen – de temperatuurnetheid bepaalt immers de nauwkeurigheid van de lijnen op het wafer. En deze controle begint al bij het IR-lampensysteem.

Wat er echt toe doet Voor de IR-lampen wordt gebruik gemaakt van aluminiumreflectoren die zorgen voor een reproduceerbare en ruimtelijk stabiele warmteafgifte. De geometrie van de reflectoren is zo ingesteld dat de verlichting gelijkmatig over het wafer wordt verdeeld, met een temperatuurnetheid van ±0,1°C. Het oppervlak van de reflectoren is gepasseerst en afgesloten, zodat ze kunnen worden gebruikt in schone kamers van klasse 1–100, zonder dat er gasen vrijkomen.

Effectieve droogtijd van fotorezyst met IR

Thu, 18 Jun 2026 01:20:34 +0800

Op de lithografieafdeling is een temperatuurschommeling van 0,5°C tijdens het bakproces al voldoende om een hele lading producten onbruikbaar te maken. Bij een zachte bak wordt de oplossing uit het materiaal gehaald; bij een harde bak wordt het profiel vastgezet. Als de thermische uniformiteit niet goed is, zal de controle over de dichtheid van de deeltjes ernstig worden beïnvloed en zal het aantal deeltjes stijgen.

Wat we hebben gebouwd, en waarom dat belangrijk is
We hebben het bakmodule geplaatst op korte-golflengte NIR-emitters, gecombineerd met een kwartsversterkte thermische stack. Hierdoor wordt er een uniformiteit van ±0,1°C bereikt over het hele oppervlak van de wafer. De setpoint-stabiliteit blijft constant, dag en nacht. Het apparaat is geschikt voor gebruik in ruimtes van klasse 1 tot klasse 100. Tijdens het bakproces worden geen deeltjes vrijgegeven. De thermische condities zijn consistent tussen verschillende batches, omdat de temperatuurprofielen precies overeenkomen met de vereisten.

Spanningsregelaar voor fab IR

Tue, 09 Jun 2026 01:15:55 +0800

Op de fab floor is het bakken van photoresist geen optie—het is een tolerantienorm waaraan je je moet houden. Een drift van 0,5°C over de wafer verschijnt als variatie in lijnbreedte na belichting, en dat resulteert in verlies van opbrengst, simpelweg gezegd. We hebben onze spanningsregelaar voor fab IR ontwikkeld om het thermische profiel op de juiste plek te houden: stabiel, herhaalbaar en onder controle.
Wat technisch belangrijk is
IR verwarmt snel, dat klopt, maar het is alleen nuttig wanneer het warmteveld uniform is. Onze regelaar houdt de spanning strak onder controle op de IR-emitterbus, zodat de output constant blijft ondanks lijnverzakking en belastingwisselingen. Je krijgt sub-millimeter uniformiteit over de hete zone en ±0,1°C instelstabiliteit op het wafervlak. Dat is geen slogan—het is een meetbare vermindering van de thermische gradiënt. De eenheid is compatibel met schone kamers van Klasse 1–100, met materialen en verpakking gekozen om het aantal deeltjes laag te houden. Nul deeltjesgeneratie is het doel, en we volgen dit met procesmonitoring.
Waarom het in de praktijk werkt
Zacht en hard bakken worden voorspelbaar. Zelfde recept, zelfde dag, zelfde ploeg, zelfde thermisch resultaat. Die herhaalbaarheid vermindert afval, verkort kwalificatietijden en beschermt je thermische budget op geavanceerde nodes. Het energieverbruik daalt ook—stabiele regeling voorkomt overshoot en houdt de emitter op zijn beoogde efficiëntie. Reken op 24/7 betrouwbaarheid, zonder ongeplande stilstand door thermische drift.
Wat je moet weten
Installatie is eenvoudig, maar de IR-belasting moet overeenkomen met de stroomwaarde van de regelaar. Controleer de weerstand van de emitter en de buslay-out; lange toevoerlijnen kunnen parasitaire effecten introduceren die problemen kunnen veroorzaken. Zorg voor een goede thermische beheersing rond de regelaar en houd afstanden aan om lokale hotspots te vermijden. Stem de regelaar af op de emitter, en het proces blijft binnen specificaties.