Infraroodverwarmer voor wafer na reiniging

Tue, 23 Jun 2026 13:22:11 +0800

Op de productielijn zorgt een kleine hoeveelheid vocht na het reinigen en de opnieuw gevormde oxide-laag er voor dat de hechting van de fotorezist vermindert, nog voordat je het zelf doorhebt. Eén trage temperatuurstijging of één hotspot kan al voldoende zijn om het proces te verstoren. De gevolgen zie je later: minder grip op het oppervlak na het eten, of problemen bij de lithografie. We hebben speciale infraroodverwarmers ontworpen om deze onzekerheden weg te nemen.

Wat technisch gezien belangrijk is: De verwarmers gebruiken kortegolflange infraroodstraling die via een kwartzvrije optische route wordt geleid, zodat er geen deeltjes worden toegevoegd. Hierdoor blijft de temperatuur binnen de gewenste grenzen voor een schone werkomgeving van klasse 1–100. De temperatuurovereenstemming over het hele oppervlak van de chip blijft op ±0,1°C, zodat de temperatuurwaarden consistent blijven, batch na batch. De reactietijd is snel, zodat je de temperatuur gemakkelijk kunt aanpassen zonder dat de thermische limieten worden overschreden. De verwarmers kunnen zowel standaard als speciale bereidingsprocedures uitvoeren, en ze kunnen gemakkelijk worden geïnstalleerd in bestaande systemen.

Schoonmaken on Radiant Infrared Heating

Infraroodverwarmer voor wafer na reiniging