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Assamento eficaz do fotoresista com IR

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Na etapa de litografia, uma variação de 0,5°C na temperatura de secagem já é suficiente para estragar todo um lote de wafers. A secagem suave tem...
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Lâmpada de cozimento para revestidor por centrifugação

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No setor de litografia, o bake não é uma pausa—é a linha divisória. O soft bake elimina o solvente do fotoresiste. O hard bake fixa a imagem da...
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