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		<title>Curto on Radiant Infrared Heating</title>
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				<title>Lâmpada de infravermelho de onda curta semicondutora</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://radiant-ir-heater.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Lâmpada de infravermelho de onda curta semicondutora&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;No piso de litografia, o tempo nunca está a seu favor. Um soft bake que desvia mesmo que 2°C compromete a evaporação do solvente, altera o fluxo do fotoresiste e desloca o controle da dimensão crítica para fora da especificação. A instabilidade no hard bake causa scumming e perda de adesão, e cada wafer descartado representa custos em tempo, produtos químicos e capacidade da sala limpa. O controle térmico não é um “desejável”—é um limite do processo.&lt;br&gt;&#xA;Escolhemos lâmpadas de infravermelho de onda curta (SWIR) para trabalhos térmicos em semicondutores porque elas transferem energia diretamente para o fotoresiste e substrato, rapidamente e com controle preciso. A faixa de comprimento de onda proporciona aquecimento volumé&lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;trico&lt;/a&gt; rápido e baixa inércia térmica na própria lâmpada, permitindo que o sistema acompanhe rapidamente os pontos de ajuste durante as etapas de bake e os mantenha estáveis durante o soak.&lt;/p&gt;</description>
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