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		<title>Eficaz on Radiant Infrared Heating</title>
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				<title>Assamento eficaz do fotoresista com IR</title>
				<link>http://radiant-ir-heater.com/pt/posts/effective-photoresist-bake-with-ir/</link>
				<pubDate>Thu, 18 Jun 2026 01:20:34 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://radiant-ir-heater.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;Assamento eficaz do fotoresista com IR&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Na etapa de litografia, uma variação de 0,5°C na temperatura de secagem já é suficiente para estragar todo um lote de wafers. A secagem suave tem como objetivo remover o solvente de forma eficaz; a secagem intensa, por sua vez, serve para fixar o perfil térmico desejado. Quando a uniformidade térmica não é mantida, o controle do diâmetro dos wafers fica comprometido, e a quantidade de partículas presentes aumenta.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;O que construímos e por que isso é importante&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Colocamos o módulo de secagem em emissores de luz infravermelha de onda curta, com uma estrutura térmica reforçada com quartzo. Isso permite uma uniformidade térmica de ±0,1°C em todo o área de contato entre o wafer e o módulo de secagem. Além disso, a estabilidade da temperatura é mantida o tempo todo. O sistema é compatível com ambientes limpos, desde a Classe 1 até a Classe 100, e não gera partículas durante o processo de secagem. O perfil térmico obtido é consistente de lote para lote, com temperaturas que seguem &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;exatamente&lt;/a&gt; as especificações definidas.&lt;/p&gt;</description>
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