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		<title>Postagem on Radiant Infrared Heating</title>
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				<title>Aquecedor de infravermelhos para wafer após a limpeza</title>
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				<pubDate>Tue, 23 Jun 2026 13:22:11 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://radiant-ir-heater.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png&#34; alt=&#34;Aquecedor de infravermelhos para wafer após a limpeza&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Na linha de produção, um pouco de umidade &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;remanescente&lt;/a&gt; após a limpeza, bem como o crescimento do óxido natural na superfície do wafer, podem prejudicar a aderência do fotoresist antes mesmo que você perceba. Um único ponto quente ou uma variação na temperatura pode fazer com que o processo de secagem do fotoresist não funcione corretamente. Os efeitos negativos disso são visíveis posteriormente: perda de qualidade da superfície do wafer após o processo de gravação, e formação de estruturas anormais durante a litografia. Por isso, desenvolvemos um aquecedor infravermelho para uso após a limpeza, a fim de eliminar essas incertezas.&lt;/p&gt;</description>
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