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		<title>Vs on Radiant Infrared Heating</title>
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				<title>Infravermelho vs Convecção para secagem de wafers</title>
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				<pubDate>Wed, 24 Jun 2026 01:17:17 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://radiant-ir-heater.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png&#34; alt=&#34;Infravermelho vs Convecção para secagem de wafers&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Na linha de produção, o erro térmico não é algo que se possa negociar como “tolerância”. Uma variação de 0,5°C durante o processo de amadurecimento do fotoresisto já é suficiente para afetar as dimensões críticas do componente. Além disso, um pouco de umidade residual após a limpeza pode causar problemas na próxima etapa da litografia. Os fornos de convecção ajudam a evitar esses problemas, pois eliminam as diferenças de temperatura entre as diferentes áreas do wafer. A radiação infravermelha também pode ser uma solução eficaz, mas só se for utilizada com cuidado, considerando as características específicas dos semicondutores, e não apenas como fonte de calor.&lt;/p&gt;</description>
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