<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Вафля on Radiant Infrared Heating</title>
		<link>http://radiant-ir-heater.com/ru/tags/%D0%B2%D0%B0%D1%84%D0%BB%D1%8F/</link>
		<description>Recent content in Вафля on Radiant Infrared Heating</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ru</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sat, 27 Jun 2026 01:43:48 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://radiant-ir-heater.com/ru/tags/%D0%B2%D0%B0%D1%84%D0%BB%D1%8F/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Нагреватель для сушки корпусов микро LED</title>
				<link>http://radiant-ir-heater.com/ru/posts/micro-led-wafer-drying-heater/</link>
				<pubDate>Sat, 27 Jun 2026 01:43:48 +0800</pubDate>
				<guid>http://radiant-ir-heater.com/ru/posts/micro-led-wafer-drying-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://radiant-ir-heater.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png&#34; alt=&#34;Нагреватель для сушки корпусов микро LED&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Смотрите, как пластина с технологией &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;Micro&lt;/a&gt; LED выходит из процедуры окончательного промывания и остается на месте в ожидании высыхания. На производственной линии всё может измениться очень быстро. Если температура нагревателя изменится даже на несколько десятых градуса, это приведет к тому, что капли жидкости останутся на краях пластины, узоры фоторезиста станут менее четкими, а качество продукции ухудшится ещё до начала процесса литографии. Мы создали специальный нагреватель для высыхания пластин с технологией Micro LED, чтобы устранить такие отклонения.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>Инфракрасное излучение против конвекции для сушки пластин</title>
				<link>http://radiant-ir-heater.com/ru/posts/infrared-vs-convection-for-wafer-drying/</link>
				<pubDate>Wed, 24 Jun 2026 01:17:17 +0800</pubDate>
				<guid>http://radiant-ir-heater.com/ru/posts/infrared-vs-convection-for-wafer-drying/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://radiant-ir-heater.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png&#34; alt=&#34;Инфракрасное излучение против конвекции для сушки пластин&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На производственной линии термические ошибки не являются чем-то, с чем можно договориться. Даже небольшое отклонение в 0,5°C во время процедуры размягчения фотополимера может привести к искажению критических размеров деталей. Небольшое количество остаточной влаги после очистки также может стать причиной проблем на следующем этапе литографии. Конвекционные печи помогают бороться с термическими колебаниями и неравномерностью температуры внутри печи. Инфракрасное излучение может быть эффективным средством, но только при условии использования технологий, разработанных с учетом особенностей полупроводников.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>Инфракрасный нагреватель для вафер после чистки</title>
				<link>http://radiant-ir-heater.com/ru/posts/post-cleaning-wafer-infrared-heater/</link>
				<pubDate>Tue, 23 Jun 2026 13:22:11 +0800</pubDate>
				<guid>http://radiant-ir-heater.com/ru/posts/post-cleaning-wafer-infrared-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://radiant-ir-heater.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png&#34; alt=&#34;Инфракрасный нагреватель для вафер после чистки&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На производственной площадке небольшое количество влаги, оставшейся после очистки, а также образование оксида на поверхности пластины могут снизить адгезию фотополимера ещё до того, как вы это заметите. Одна лишняя точка нагрева — и параметры процедуры выпечки фотополимера нарушаются. Последствия этого становятся очевидны позже: снижение прочности поверхности после этичинга, появление «мостиков» между элементами на поверхности пластины во время литографии. Мы разработали инфракрасный обогреватель для использования после очистки пластин, чтобы устранить такие проблемы.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Что важно с технической точки зрения&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Устройство использует кратковолновые инфракрасные излучатели, которые работают через оптическую систему без использования кварца. Это предотвращает появление частиц, что необходимо для обеспечения стандартов чистоты класса 1–100. Равномерность температуры по всей поверхности пластины составляет ±0,1°C, что позволяет сохранять стабильные условия для процедуры выпечки фотополимера в каждой партии продукции. Устройство реагирует быстро, поэтому можно изменять параметры нагрева без превышения допустимых значений температуры. Обогреватель подходит как для процедур мягкой, так и жесткой выпечки фотополимера; его можно использовать в составе автоматических систем или отдельно.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
