http://radiant-ir-heater.com/ru/tags/%D0%BF%D0%BE%D1%81%D1%82/ Recent content in Пост on Radiant Infrared Heating Hugo ru Tue, 23 Jun 2026 13:22:11 +0800 http://radiant-ir-heater.com/ru/posts/post-cleaning-wafer-infrared-heater/ Tue, 23 Jun 2026 13:22:11 +0800 http://radiant-ir-heater.com/ru/posts/post-cleaning-wafer-infrared-heater/ <p><img src="http://radiant-ir-heater.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png" alt="Инфракрасный нагреватель для вафер после чистки"></p> <p>На производственной площадке небольшое количество влаги, оставшейся после очистки, а также образование оксида на поверхности пластины могут снизить адгезию фотополимера ещё до того, как вы это заметите. Одна лишняя точка нагрева — и параметры процедуры выпечки фотополимера нарушаются. Последствия этого становятся очевидны позже: снижение прочности поверхности после этичинга, появление «мостиков» между элементами на поверхности пластины во время литографии. Мы разработали инфракрасный обогреватель для использования после очистки пластин, чтобы устранить такие проблемы.</p> <p><strong>Что важно с технической точки зрения</strong><br> Устройство использует кратковолновые инфракрасные излучатели, которые работают через оптическую систему без использования кварца. Это предотвращает появление частиц, что необходимо для обеспечения стандартов чистоты класса 1–100. Равномерность температуры по всей поверхности пластины составляет ±0,1°C, что позволяет сохранять стабильные условия для процедуры выпечки фотополимера в каждой партии продукции. Устройство реагирует быстро, поэтому можно изменять параметры нагрева без превышения допустимых значений температуры. Обогреватель подходит как для процедур мягкой, так и жесткой выпечки фотополимера; его можно использовать в составе автоматических систем или отдельно.</p>